レジスト剥離液（アミン/溶剤系・溶剤系・有機アルカリ系）
アミンと溶剤を混合した系統の剥離液、および溶剤系統の剥離液、 有機アルカリ系統の剥離液を取り揃えています。
本製品の特長は以下のとおりです。 ・金属膜や絶縁膜を腐食することなく、レジストを良好に剥離します。 ・低温から高温での処理が可能です。 ・いずれのレジスト剥離液もNMP非含有です。 キーワード：レジスト、非水系
- 企業：林純薬工業株式会社 電子材料部
- 価格：応相談
レジスト剥離液 - 企業5社の製品一覧とランキング
更新日： 集計期間:2025年03月26日～2025年04月22日
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企業ランキング
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- 林純薬工業株式会社 大阪府/化学 電子材料部
- 関東化学株式会社 東京都/化学 電子材料事業本部
- 株式会社ラットコーポレーション 愛知県/商社・卸売り 本社：営業部・業務部
- 4 株式会社山縣機械 大阪府/産業用機械 ＦＴＰ事業部
- 5 株式会社三若純薬研究所 愛知県/化学
製品ランキング
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- レジスト剥離液（水系）「PureClean MCseries」 林純薬工業株式会社 電子材料部
- NMP代替レジスト剥離液 『JELK-404』 関東化学株式会社 電子材料事業本部
- レジスト剥離液（アミン/溶剤系・溶剤系・有機アルカリ系） 林純薬工業株式会社 電子材料部
- 4 レジスト剥離液 株式会社ラットコーポレーション 本社：営業部・業務部
- 5 レジスト剥離液『PURMS＋Y』 株式会社山縣機械 ＦＴＰ事業部
製品一覧
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レジスト剥離液（水系）「PureClean MCseries」
レジストを良好に剥離します。含水系剥離液は消防法の危険物に該当しません。
本製品の特長は以下のとおりです。 ・ 金属膜や絶縁膜を腐食することなく、レジストを良好に剥離します。 ・ 低温、短時間での処理が可能です。 ・ NMPを使用していません。 キーワード：レジスト、非危険物
- 企業：林純薬工業株式会社 電子材料部
- 価格：応相談
レジスト剥離液
炭酸エチレンベースのレジスト剥離液
炭酸エチレンベースの『レジスト剥離液』は、二酸化炭素を原料としており、 製造時の二酸化炭素の発生がほとんどありません。 炭酸エチレンと比較して、常温で個体の物質を19℃に改良を行いました。 クリーンルーム内では液体として使用可能です。 主な用途は、ポリカーボネート原料、リチウムイオン電池用電解液などです。 【特長】 ■蒸気圧が低く、ニオイもほとんどない ■引火点が高く、火災の危険性が低くなる ■原料製造時のCO2の発生はほとんどない 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社ラットコーポレーション 本社：営業部・業務部
- 価格：応相談
フォトレジスト剥離液『アンラスト RW-C』
浸漬法、スプレー法に対応！苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品をご紹介
『アンラスト RW-C』は、樹脂に対して強力な剥離、洗浄性があり、 浸漬法、スプレー法に対応可能なフォトレジスト剥離液です。 ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離用途に好適。 苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。 【処理条件】 ■濃度：原液処理 ■温度：50～70℃ ■時間：5分前後 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
レジスト剥離液『アンラスト M10』
浸漬法、スプレー法にも対応！基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を防止！
『アンラスト M10』は、処理方法として浸漬法、スプレー法にも対応した レジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナ／ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度：原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
フォトレジスト剥離液『アンラスト M601』
浸漬法、スプレー法に対応！浸透性が高いため、細部まで剥離が可能！
『アンラスト M601』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも使用可能な フォトレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラムでご用意しています。 浸透性が高いため、細部まで剥離が可能。浸漬法、スプレー法に対応できます。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』
鉄系基材に対し、防・除錆効果あり！生分解性がよく、環境負荷が少ないです
『アンラスト TP160』は、生分解性がよく、環境負荷の少ない フォトレジスト剥離液です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に添加する ことにより、レジストの剥離が容易。 鉄系基材に対し、防・除錆効果があります。 【特長】 ■苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に 添加することにより、レジストの剥離が容易 ■鉄系基材に対し、防・除錆効果がある ■生分解性がよく、環境負荷が少ない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
レジスト剥離液『PURMS＋Y』
ゼロエミッション対応の剥離剤（中性タイプ）！
『PURMS＋Y』は、ドライフィルムレジストが溶解しないため、 剥離片をフィルターで回収し易い、中性タイプのレジスト剥離液です。 液のライフが長いので、メンテナンス時間を削減可能。 また、再生使用ができ、ゼロエミッションプロセスができます。 【特長】 ■リンス排水は生化学処理が可能 ■蒸気圧が低く、吸湿性が弱いので処理液の回収率が高い ■下地の金属にダメージを与えない など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社山縣機械 ＦＴＰ事業部
- 価格：応相談
フォトレジスト剥離液『アンラスト RC-D6』
ドライフィルムレジスト剥離液やウレタン塗料の剥離等に使用可能！
『アンラスト RC-D6』は、レジストや塗料の剥離用途に適した フォトレジスト剥離液です。 溶剤タイプの剥離液で、ドライフィルムレジスト剥離液や ウレタン塗料の剥離等に使用可能。 18kg缶／ドラムでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～60℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
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フォトレジスト剥離液『アンラスト OS15』
キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあるフォトレジスト剥離液のご紹介
『アンラスト OS15』は、カゼイン系、PVA系レジスト及びドライフィルム レジストの剥離に適したフォトレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナでご用意。 キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 【処理条件】 ■濃度：3倍希釈～原液 ■温度：50～70℃ ■時間：2～10分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
レジスト剥離液『アンラスト No.1D』
水溶性レジスト剥離剤に！アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液
株式会社三若純薬研究所の取り扱うレジスト剥離液『アンラスト No.1D』を ご紹介します。 珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
レジスト剥離液『アンラスト M6』
ポジ型レジストの剥離用途に！浸漬法、スプレー法に対応できます
『アンラスト M6』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に 対応できます。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
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レジスト剥離液『アンラスト R510』
剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています
『アンラスト R510』は、PVA系フォトレジストの剥離剤です。 特にリードフレーム用として開発。剥離された皮膜は比較的小さく、 また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 【特長】 ■PVA系フォトレジストの剥離剤 ■特にリードフレーム用として開発 ■剥離された皮膜は比較的小さい ■BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっている ■毒物劇物取締法：毒物 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
レジスト剥離液『アンラスト M71-2』
浸漬法、スプレー法にも対応！剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があります
『アンラスト M71-2』は、有機アルカリタイプで、アルミニウム基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 浸漬法、スプレー法にも対応。 剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があります。 【特長】 ■有機アルカリタイプ ■アルミニウム基板にも使用可能 ■浸漬法、スプレー法にも対応 ■剥離片を柔らかくし、細分化させる効果がある ■毒物劇物取締法：毒物 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
レジスト剥離液『アンラスト No.2C』
水溶性レジスト剥離剤の用途に！アルミニウム基盤にも使用可能です
『アンラスト No.2C』は、珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品です。 アルミニウム基盤にも使用可能。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 20kg缶をはじめ、ドラムやローリーでご用意しております。 【特長】 ■珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品 ■アルミニウム基盤にも使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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