レジスト剥離液（アミン/溶剤系・溶剤系・有機アルカリ系）
アミンと溶剤を混合した系統の剥離液、および溶剤系統の剥離液、 有機アルカリ系統の剥離液を取り揃えています。
本製品の特長は以下のとおりです。 ・金属膜や絶縁膜を腐食することなく、レジストを良好に剥離します。 ・低温から高温での処理が可能です。 ・いずれのレジスト剥離液もNMP非含有です。 キーワード：レジスト、非水系
- 企業：林純薬工業株式会社 電子材料部
- 価格：応相談
レジスト剥離液 - 企業4社の製品一覧
製品一覧
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レジスト剥離液（水系）「PureClean MCseries」
レジストを良好に剥離します。含水系剥離液は消防法の危険物に該当しません。
本製品の特長は以下のとおりです。 ・ 金属膜や絶縁膜を腐食することなく、レジストを良好に剥離します。 ・ 低温、短時間での処理が可能です。 ・ NMPを使用していません。 キーワード：レジスト、非危険物
- 企業：林純薬工業株式会社 電子材料部
- 価格：応相談
レジスト剥離液
炭酸エチレンベースのレジスト剥離液
炭酸エチレンベースの『レジスト剥離液』は、二酸化炭素を原料としており、 製造時の二酸化炭素の発生がほとんどありません。 炭酸エチレンと比較して、常温で個体の物質を19℃に改良を行いました。 クリーンルーム内では液体として使用可能です。 主な用途は、ポリカーボネート原料、リチウムイオン電池用電解液などです。 【特長】 ■蒸気圧が低く、ニオイもほとんどない ■引火点が高く、火災の危険性が低くなる ■原料製造時のCO2の発生はほとんどない 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社ラットコーポレーション 本社：営業部・業務部
- 価格：応相談
レジスト剥離液『アンラスト M10』
浸漬法、スプレー法にも対応！基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を防止！
『アンラスト M10』は、処理方法として浸漬法、スプレー法にも対応した レジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナ／ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度：原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
レジスト剥離液『PURMS＋Y』
ゼロエミッション対応の剥離剤（中性タイプ）！
『PURMS＋Y』は、ドライフィルムレジストが溶解しないため、 剥離片をフィルターで回収し易い、中性タイプのレジスト剥離液です。 液のライフが長いので、メンテナンス時間を削減可能。 また、再生使用ができ、ゼロエミッションプロセスができます。 【特長】 ■リンス排水は生化学処理が可能 ■蒸気圧が低く、吸湿性が弱いので処理液の回収率が高い ■下地の金属にダメージを与えない など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社山縣機械 ＦＴＰ事業部
- 価格：応相談
レジスト剥離液『アンラスト No.1D』
水溶性レジスト剥離剤に！アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液
株式会社三若純薬研究所の取り扱うレジスト剥離液『アンラスト No.1D』を ご紹介します。 珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
レジスト剥離液『アンラスト M6』
ポジ型レジストの剥離用途に！浸漬法、スプレー法に対応できます
『アンラスト M6』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に 対応できます。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
レジスト剥離液『アンラスト R510』
剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています
『アンラスト R510』は、PVA系フォトレジストの剥離剤です。 特にリードフレーム用として開発。剥離された皮膜は比較的小さく、 また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 【特長】 ■PVA系フォトレジストの剥離剤 ■特にリードフレーム用として開発 ■剥離された皮膜は比較的小さい ■BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっている ■毒物劇物取締法：毒物 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
レジスト剥離液『アンラスト M71-2』
浸漬法、スプレー法にも対応！剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があります
『アンラスト M71-2』は、有機アルカリタイプで、アルミニウム基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 浸漬法、スプレー法にも対応。 剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があります。 【特長】 ■有機アルカリタイプ ■アルミニウム基板にも使用可能 ■浸漬法、スプレー法にも対応 ■剥離片を柔らかくし、細分化させる効果がある ■毒物劇物取締法：毒物 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
レジスト剥離液『アンラスト No.2C』
水溶性レジスト剥離剤の用途に！アルミニウム基盤にも使用可能です
『アンラスト No.2C』は、珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品です。 アルミニウム基盤にも使用可能。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 20kg缶をはじめ、ドラムやローリーでご用意しております。 【特長】 ■珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品 ■アルミニウム基盤にも使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
