剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています
『アンラスト R510』は、PVA系フォトレジストの剥離剤です。 特にリードフレーム用として開発。剥離された皮膜は比較的小さく、 また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 【特長】 ■PVA系フォトレジストの剥離剤 ■特にリードフレーム用として開発 ■剥離された皮膜は比較的小さい ■BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっている ■毒物劇物取締法：毒物 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液 ・温度：90～110℃ ・時間：20～90秒 ■対象物 ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／1tコンテナ／ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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納期
用途／実績例
【用途】 ■PVA系フォトレジストの剥離 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
三若純薬研究所は、無機化学品の小分け・配合からスタートし、今では、 精密化学薬品などの受託製造販売、および、弊社オリジナルのレジスト剥離剤 や金属表面処理薬などを開発・製造しています。 私たちはこれまでも、そしてこれからも、安全第一、安定した高品質、 リーズナブルな価格設定、スピーディな対応を心がけ、「ものづくりの力」を 高めてまいります。