更新日： 集計期間:2025年11月19日～2025年12月16日
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浸漬法、スプレー法に対応！浸透性が高いため、細部まで剥離が可能！
『アンラスト M601』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも使用可能な フォトレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラムでご用意しています。 浸透性が高いため、細部まで剥離が可能。浸漬法、スプレー法に対応できます。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
鉄系基材に対し、防・除錆効果あり！生分解性がよく、環境負荷が少ないです
『アンラスト TP160』は、生分解性がよく、環境負荷の少ない フォトレジスト剥離液です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に添加する ことにより、レジストの剥離が容易。 鉄系基材に対し、防・除錆効果があります。 【特長】 ■苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に 添加することにより、レジストの剥離が容易 ■鉄系基材に対し、防・除錆効果がある ■生分解性がよく、環境負荷が少ない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
アルミ及びアルミ合金材に対する腐食性が無く対応可能！液疲労が小さく非常に経済的
『アンラスト CB』は、鉄鋼、非鉄金属製の治具等に適した 塗装剥離液です。 アルカリタイプですが、アルミ及びアルミ合金材に対する 腐食性が無く対応可能。 また、剥離タイプで塗膜が殆ど溶解しない為、液疲労が小さく 非常に経済的です。 【特長】 ■各種被膜を剥離するアルカリタイプ ■アルミ及びアルミ合金材に対する腐食性が無く対応可能 ■剥離タイプで塗膜が殆ど溶解しない ■液疲労が小さく非常に経済的 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進に好適！高温使用が可能の為、剥離性に優れています
『アンラスト RMO-K』は、苛性カリベースの電着塗装剥離剤です。 塗膜の溶解が比較的少ない為、浴寿命が長く経済的。 また、高温使用が可能の為、剥離性に優れ、塩素系溶剤、 有機溶剤中毒予防規則に指定される物質を含みません。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：70～110℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などに！高温使用が可能の為、剥離性に優れています
『アンラスト MP』は、浴寿命が長く経済的な塗装剥離液です。 苛性アルカリに混合し、溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などの用途に好適。 高温使用が可能の為、剥離性に優れています。 【処理条件】 ■濃度：苛性アルカリに2～5％混合 ■温度：70～110℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ドライフィルムレジスト剥離液やウレタン塗料の剥離等に使用可能！
『アンラスト RC-D6』は、レジストや塗料の剥離用途に適した フォトレジスト剥離液です。 溶剤タイプの剥離液で、ドライフィルムレジスト剥離液や ウレタン塗料の剥離等に使用可能。 18kg缶／ドラムでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～60℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
エナメル電線皮膜を剥離することが可能！塩素系、アミン系の溶剤を含有していません
『アンラスト EW-R』は、エナメル電線皮膜のポリエステルの剥離に適した 塗装剥離液です。 処理方法は、対象物を浸漬し、ウエス等での拭き取りでエナメル電線皮膜を 剥離することが可能。 塩素系、アミン系の溶剤を含有せず、臭いを抑え、人体への影響が少ない 製品です。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～60℃ ■時間：30～120分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあるフォトレジスト剥離液のご紹介
『アンラスト OS15』は、カゼイン系、PVA系レジスト及びドライフィルム レジストの剥離に適したフォトレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナでご用意。 キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 【処理条件】 ■濃度：3倍希釈～原液 ■温度：50～70℃ ■時間：2～10分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
水溶性レジスト剥離剤に！アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液
株式会社三若純薬研究所の取り扱うレジスト剥離液『アンラスト No.1D』を ご紹介します。 珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ポジ型レジストの剥離用途に！浸漬法、スプレー法に対応できます
『アンラスト M6』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に 対応できます。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています
『アンラスト R510』は、PVA系フォトレジストの剥離剤です。 特にリードフレーム用として開発。剥離された皮膜は比較的小さく、 また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 【特長】 ■PVA系フォトレジストの剥離剤 ■特にリードフレーム用として開発 ■剥離された皮膜は比較的小さい ■BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっている ■毒物劇物取締法：毒物 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
浸漬法、スプレー法にも対応！剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があります
『アンラスト M71-2』は、有機アルカリタイプで、アルミニウム基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 浸漬法、スプレー法にも対応。 剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があります。 【特長】 ■有機アルカリタイプ ■アルミニウム基板にも使用可能 ■浸漬法、スプレー法にも対応 ■剥離片を柔らかくし、細分化させる効果がある ■毒物劇物取締法：毒物 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
水溶性レジスト剥離剤の用途に！アルミニウム基盤にも使用可能です
『アンラスト No.2C』は、珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品です。 アルミニウム基盤にも使用可能。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 20kg缶をはじめ、ドラムやローリーでご用意しております。 【特長】 ■珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品 ■アルミニウム基盤にも使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
