精密洗浄
精密洗浄が必要な半導体装置本体や半導体関係部品など大物から小物まで幅広く対応します。
精密洗浄は目に見えない汚れや残留物の除去が目的です。 特に半導体製造過程では異物が付着してしまうと生産に不具合が生じます。 光伸産業では独自の洗浄技術をいかしクリーンな製品に仕上がります。
- 企業:光伸産業株式会社
- 価格:応相談
更新日: 集計期間:2025年08月27日~2025年09月23日
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精密洗浄が必要な半導体装置本体や半導体関係部品など大物から小物まで幅広く対応します。
精密洗浄は目に見えない汚れや残留物の除去が目的です。 特に半導体製造過程では異物が付着してしまうと生産に不具合が生じます。 光伸産業では独自の洗浄技術をいかしクリーンな製品に仕上がります。
純水洗浄のほかにサンドブラスターやプラズマ溶射装置も完備!
フェローテックでは、半導体とFPD製造装置(TFT・OLED)の部品洗浄を 行っています。 純水洗浄のほかにサンドブラスターやプラズマ溶射装置も完備しています。 また、先駆的な微細化である28nm対応の新設備でお客様のご要望に お応えしております。 【特長】 ■半導体とFPD製造装置の部品洗浄 ■サンドブラスターやプラズマ溶射装置も完備 ■微細化である28nm対応の新設備 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
精密洗浄
大宮工業の精密洗浄は、半導体及び液晶生産工場での製造工程でパーティクルの原因となる装置部品に付着したデポを除去し、生産に支障無きよう各種の部分を部品を再生します。 真空装置部品の精密洗浄だけでなく、精密加工部品の脱脂洗浄・排気配管等の洗浄、配管・サイレンサー・トラップなど生成物の除去も承ります。
微細化技術に必要なパーティクル、コンタミの低減を実現する精密洗浄技術を紹介
『精密洗浄 精密研磨』は、主に半導体関連精密洗浄・研磨を行っている 株式会社ネオスの技術紹介カタログです。 半導体・液晶・太陽電池パネル・製造部品装置の精密洗浄や、特殊表面処理 などの精密洗浄をはじめ、精密研磨技術をご紹介。 その他、装置付帯設備・材質を運ばないため分解不要なフィールドメンテ ナンスなども掲載しています。 【掲載内容】 ■精密洗浄 ■精密研磨 ■フィールドメンテナンス など ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
半導体工場における、シリコン洗浄用途としての納入実績です。
プライムネットではお客様の使用目的や要求水質、原水条件に応じて最適な水処理システムをご提案いたします。 お客様の要求を元に、最小限の設備をご提案、イニシャルコストを大幅に抑えることが出来ます。 自社で設計・開発・製造を行っておりますため、お客様の要求仕様に合わせた装置のカスタムを得意としております。また、導入後も造水量を増やしたい、さらに純度の高い水が欲しいといったお客様の要求にもお応えしております。自社で設計製造しているからこそできる特徴です。 【特徴】 ○生産水量:3.2t/h ○水質:17MΩ・cm 詳しくはお問い合わせ下さい。
半導体工程での処理例を紹介! 超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し洗浄!
蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。 本ページでは、半導体工程(白金残渣)での洗浄前と洗浄後の比較資料を掲載しております。 【特長】 ■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 ■使用するのは「純水」のみ ■化学薬品の使用量を大幅に削減 ■洗浄力を大幅に向上 ■半導体用洗浄にも使用 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
乾燥工程や廃液処理の手間が不要!複雑な形状でも傷をつけず、高効率に洗浄できるドライ洗浄装置
ドライアイススノー洗浄システム「Quick Snow」~パラレルリンク型高速確度制御装置搭載型~はエア・ウォーターの液化炭酸ガスを使ったドライアイススノー精密洗浄システムの技術と、NTNのパラレルリンク型高速角度制御装置の技術を融合した微細洗浄装置です。 ノズルの向きを滑らか、かつ素早く操作しながら複雑な形状でも傷をつけず、高効率に洗浄できることが特長です。 【特長】 1. 非常に滑らかなノズルの動きで高性能なドライ洗浄を実現 2.対象物へのダメージレス 3.乾燥工程不要によるサイクルタイム短縮 4.メンテナンス性向上(コンパクトな配線の取り回し) 【用途】 自動車部品や半導体・電子制御部品など複雑形状品の精密洗浄 ※デモをご希望の方は、お問い合わせフォームより「デモ希望」と明記の上、お問い合わせ下さい。 ※「QuickSnow」のカタログは、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。
精密な洗浄装置とクリーンな環境を整備!アルミ、ガラス、セラミック等に対応可能
ヱビナ電化工業では『半導体関連部品への精密洗浄』を行っています。 清浄度が必要な精密部品に適用可能。クリーンルーム内で洗浄から 梱包まで行いパーティクルを抑制します。 また、めっき・洗浄・梱包まで社内一貫対応のため、表面処理+洗浄の リードタイムを短縮できます。 【特長】 ■清浄度が必要な精密部品に適用可能 ・クリーンルーム内で洗浄から梱包まで行いパーティクルを抑制 ■めっき・洗浄・梱包まで社内一貫対応 ・表面処理+洗浄のリードタイムを短縮 ■素材や目的に対応した複数の洗浄設備 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
水のみを使った画期的な 可動式蒸気洗浄機が新登場!! ガンタイプなので狭い場所や対象を動かさずに洗浄可能になりました。
=半導体業界から生まれた新技術= 蒸気を超音速で噴射することにより発生する衝撃波(キャビテーション)と、せん断力により異物、よごれを除去できます。 実験試作用に作られた小型で移動式の蒸気2流体洗浄装置です。 工場内で色々な対象物を試すには最適です。電気・純水・圧縮空気(または、窒素)だけで動作可能です。 《新製品の特徴》 ■ガンタイプですので、どこにでも持ち運びOK 狭い場所での作業や、パーツを動かすことなく作業する事が可能になります! ■水のみを使うので環境にも優しく、安心・安全! ■薬品を使わないので、廃液処理が簡単、低コストを実現 薬液との併用(微量)も可 ■消耗品レスでメンテナンスコストも削減可能 ■油落としに効果(動画公開中 油性マジックも落とせます!!) ※詳しくはカタログをダウンロードまたはお問合せ下さい。
乾燥工程や廃液処理の必要なし!半導体や電子部品も洗浄できるドライ洗浄装置
ドライアイススノー洗浄システム「QuickSnow」は、エア・ウォーターの液化炭酸ガスを使ったドライアイススノー精密洗浄システムの技術です。 【特長】 1.洗浄による残渣なし 2.ドライ洗浄 3.対象物へのダメージレス 4.乾燥工程不要によるサイクルタイム短縮 【用途】 ・パーティクル除去(サブミクロン~ミクロンオーダーまで対応可) ・有機物除去 【洗浄対象】 ・半導体デバイス(イメージセンサーなど) ・光学部品(光ファイバー、カメラレンズなど) ・電子部品(ハードディスクドライブ関連部品など) ・フィルム製造(製造装置ローラー、高機能フィルムなど) ・FPD部品(ガラス基板、有機EL基板など) ・自動車部品(ボディ部品、金属部品など) ※デモをご希望の方は、お問い合わせフォームより「デモ希望」と明記の上、お問い合わせ下さい。 ※「QuickSnow」のカタログは、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。
乾燥工程や廃液処理の必要なし!半導体や電子部品も洗浄できるドライ洗浄装置
ドライアイススノー洗浄システム「QuickSnow」は、エア・ウォーターの液化炭酸ガスを使ったドライアイススノー精密洗浄システムの技術です。 【特長】 1.洗浄による残渣なし 2.ドライ洗浄 3.対象物へのダメージレス 4.乾燥工程不要によるサイクルタイム短縮 【噴射タイプ】 ・スポット型 → 一般的な噴射タイプ ・広角型 → 幅広噴射に対応した噴射タイプ (その他、複数ノズル型も提供可能) 【用途】 ・パーティクル除去(サブミクロン~ミクロンオーダーまで対応可) ・有機物除去 【洗浄対象】 ・半導体デバイス(イメージセンサーなど) ・光学部品(光ファイバー、カメラレンズなど) ・電子部品(ハードディスクドライブ関連部品など) ・フィルム製造(製造装置ローラー、高機能フィルムなど) ・FPD部品(ガラス基板、有機EL基板など) ・自動車部品(ボディ部品、金属部品など) ※デモをご希望の方は、HPお問い合わせフォームより「デモ希望」と明記の上、お問い合わせ下さい。 ※「QuickSnow」のカタログは、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。
ガラス表面の接触角測定の洗浄データ公開中 超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し洗浄!
蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。 本ページでは、ガラス表面の接触角測定を洗浄した際のデータ資料を掲載しております。 【特長】 ■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 ■使用するのは「純水」のみ ■化学薬品の使用量を大幅に削減 ■洗浄力を大幅に向上 ■半導体用洗浄にも使用 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
水のレジスト膜への浸透処理を公開中 超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し洗浄!
蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。 本ページでは、水のレジストへの浸透を処理前と処理後の比較資料を掲載しております。 【特長】 ■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 ■使用するのは「純水」のみ ■化学薬品の使用量を大幅に削減 ■洗浄力を大幅に向上 ■半導体用洗浄にも使用 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
ビアホールの洗浄比較資料公開中 超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し洗浄!
蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。 本ページでは、ビアホールの洗浄処理前と処理後の比較資料を掲載しております。 【特長】 ■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 ■使用するのは「純水」のみ ■化学薬品の使用量を大幅に削減 ■洗浄力を大幅に向上 ■半導体用洗浄にも使用 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
太陽電池用シリコン基板の切削粉除去の洗浄データ公開中 超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し洗浄!
蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。 本ページでは、太陽電池用シリコン基板の切削粉を除去処理した際のデータ資料を掲載しております。 【特長】 ■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 ■使用するのは「純水」のみ ■化学薬品の使用量を大幅に削減 ■洗浄力を大幅に向上 ■半導体用洗浄にも使用 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい