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炉(ガス置換) - 企業と製品の一覧

更新日: 集計期間:2025年03月26日~2025年04月22日
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熱処理中にガスの切替が可能な雰囲気炉 ※バッチ型・連続式

こんな課題でお困りではありませんか?「COガスの出る炉を使用しているが、メンテナンス時に危険が伴う」

炉内で使用した雰囲気ガスを廃棄せずに加熱前のスペースで予熱として再利用することができます。その結果、常温から加熱する時よりもエネルギー使用量が少なく省エネとなります。 窒素や水素以外でも特殊な雰囲気下の熱処理に対応可能です。サンファーネスでは処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて最適な雰囲気炉をご提案いたします。 【その他の特長】 ● バッチ式や連続式などのさまざまな形状の炉の取扱いがあります。 ● 粉末冶金向け脱脂炉の取扱いがあります。 【その他の課題解決】 ■ 攪拌ファンのシャフトが摩耗してガスが漏れるので交換の頻度が多い ■ 粉体静置処置で粉体と反応ガスの接触が少なく処理時間が長い 【おもな雰囲気熱処理炉】 ■ バッチ型還元炉 ■ 竪型還元ろう付け炉 ■ ベル型窒化炉 ■ ピット型滴注浸炭炉 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。

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  • 工業炉

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窒素や水素以外でも特殊な雰囲気下の熱処理に対応可能な雰囲気炉

処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて、好適な雰囲気炉をご提案いたします。

炉内で使用した雰囲気ガスを廃棄せずに加熱前のスペースで予熱として再利用することができます。その結果、常温から加熱する時よりもエネルギー使用量が少なく省エネとなります。 窒素や水素以外でも特殊な雰囲気下の熱処理に対応可能です。サンファーネスでは処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて最適な雰囲気炉をご提案いたします。 【その他の特長】 ● バッチ式や連続式などのさまざまな形状の炉の取扱いがあります。 ● 熱処理中にガスの切替が可能。 ● 粉末冶金向け脱脂炉の取扱いがあります。 【その他の課題解決】 ■ 攪拌ファンのシャフトが摩耗してガスが漏れるので交換の頻度が多い ■ COガスの出る炉を使用しているが、メンテナンス時に危険が伴う ■ 粉体静置処置で粉体と反応ガスの接触が少なく処理時間が長い 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。

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OSK 481TVK-V 1200℃ 真空管状炉

1200℃最高温度の真空管状炉  石英・セラミック炉心管対応

• 最高温度は1200℃で、カンタルワイヤー発熱体を使用しています • 真空ポンプと配管を接続することで、低真空・中真空下での熱処理が可能です • 真空置換機能により、不活性ガスや反応ガスなどの制御雰囲気での加熱が可能です • 大気での加熱も可能で、3種類の加熱方法を1機で実現できます • 温度制御器は本体に内蔵されており、制御箱を別置きにする必要がありません • 熱電対や炉心管の取り外しや交換が容易です • 科学研究所や教育機関などで、様々な材料試験や熱処理に使用されています

  • 電気炉

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全自動プッシャー式焼結炉『YSP-N型』

焼結部にモリブデン製ヒーターを採用することにより大幅な省エネに!

当社では、鉄系粉末成型品の各種雰囲気中における焼結を目的とした 全自動プッシャー式焼結炉『YSP-N型』を取り扱っております。 脱ろう部にはアフターバーナーを完備しているので作業環境が良好。 また、脱ろう部のバインダー清掃は長期間不要であるので生産計画が 立てやすく、メンテナンスも容易です。 【特長】 ■炉の入、出口に置換室を有しているので、O2コントロールがし易く、  ガス量の低減が計れる ■駆動および搬送装置は従来の経験を活かし、  特にトラブルが生じにくい構成に成っている ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • 焼却炉・焼却装置

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ラックヒータ炉

超急速昇温を実現!さらに均熱化も!ラックヒータ炉

当製品は、高温バッチ路で133℃/min(8000℃/h)急速昇温が可能な ラックヒータ炉です。 均一な温度分布(R=6℃)で、消費電力削減しました。 (当社従来比20%削減) 用途例としては、電子部品材料の焼成や粉体材料の焼成、 二次電池材料の焼成、LED用蛍光体材料の焼成となっております。 【特長】 ■高温バッチ路で133℃/min(8000℃/h)急速昇温が可能 ■露点制御が可能(+10℃~+50℃) ■急速冷却が可能(1350℃~200℃まで150分以内) ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 電気炉
  • その他ヒータ

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焼戻炉

焼戻炉単体でも焼入炉とのセットでも対応可能です

焼入れ後、真空置換することにより、大気に触れることなく昇温でき、ワークに靭性を持たせることができます。また、最適なガスコントロールによるコストダウンを実現します。 【仕様】 ● 温度:150~650℃ ● 雰囲気:大気、窒素 ● 用途:焼戻し ● 処理物:鉄(合金鋼) ● 処理量:650kg/h *詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 工業炉

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ガス置換マッフル炉『OSK75YU IGMシリーズ』

材料の出し入れが便利な箱型構造を採用した、マッフル炉です。

最高温度1 200℃、1 400℃及び1 700℃の3タイプからお選びいただけます。 エネルギー効率を最大限に保つため、高純度繊維状アルミナ断熱材を使用。 炉の外部に触れても安全な空冷ファン付きの二層鉄骨構造。 安全インターロック機構で、ドアが開くと自動的に炉の電源をオフにします。 30 セグメントのPID制御による温度管理。

  • 電気炉

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非鉄金属用熱処理炉 

AMS規格(米国航空宇宙規格)にも対応可能な技術で、お客様に合わせてオーダーメイドで対応します。

非鉄金属はシビアな温度管理や酸素濃度管理が必要です。 専門性の高い処理が要求される材料をそれぞれの目的にあった熱処理のご提案をします。 サンファーネスでは「非鉄金属」として下記の材料の熱処理炉のご提案が可能です。 ● マグネシウム合金 ● チタン合金 ● 銅・銅合金 ● 亜鉛 ● 銀・貴金属 ● モリブデン ● タングステン ● コバルト ● ニッケル 【特長】 ● 各種雰囲気ガスを入れることが可能です。 ● 精密な温度コントロールが可能です。 材料の特性に応じて熱処理方法もさまざまですので、お客様の用途に応じた工業炉の提案をいたします。 【課題解決】こんな課題を解決しました。 ■ 10m3の真空置換の炉がほしい ■ 酸素濃度100ppm以下で10㎥の炉がほしい ■ 有効2m2の1200℃の炉で温度分布を出したい 工業炉の自動化、省エネ化、安全性の向上などのご提案も可能です。 お気軽にご相談ください。

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4インチ用縦型VGF製造炉『MAT-150VGFHQ』

PBNるつぼと石英アンプルは再使用が可能!炉体移動式のVGF炉をご紹介します

『MAT-150VGFHQ』は、炉体移動式のVGF炉で、かつヒ素圧1atm中で 育成するので容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが出来る 4インチ用縦型VGF製造炉です。 育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離します。 また、PBNるつぼと石英アンプルは、再使用が可能です。 【特長】 ■容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが出来る ■育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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水素雰囲気コンベア炉(還元雰囲気連続熱処理装置)

豊富な実績を誇るベストセラータイプ、高温半田付やペースト焼成・金属粒子燒結接合工程を実績のソフトと信頼性の高いハードでサポート

炉内を水素還元雰囲気置換。N2による不活性雰囲気では実現できない低酸素濃度と還元雰囲気処理をコンベア炉による連続処理で実現。 水素雰囲気の還元効果を応用し、通常のリフローでは対応できない高い信頼性を求められる高温半田付や連続還元雰囲気処理熱処理に対応。 各種ペーストの焼成にも実績豊富。 300mmウェハ対応のCtoCタイプでシステムLSIのウェハバンプのリフロー工程もカバー 従来の半田付・ロー付・ペースト焼成工程だけでなく次世代接合材(金属ナノペースト)の燒結接合にも実績対応。 デモ機を常設し各用途の初期テストから量産まで確実にサポート。

  • リフロー装置
  • アニール炉
  • 電気炉

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6インチ用縦型VGF製造炉『MAT-200VGFHQ』

容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが可能な炉体移動式のVGF炉です

『MAT-200VGFHQ』は、石英管式炉体移動型の炉構造であるVGF製造炉です。 ヒ素圧1atm中で育成するので、容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが 可能。常用温度は1200℃、最高温度は1300℃です。 また、育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離します。 さらにPBNるつぼと石英アンプルは、再使用が可能です。 【特長】 ■育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離 ■PBNるつぼと石英アンプルは、再使用が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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マッフル炉『OSK75YU IGM12/IGM14/IGM17』

最高温度は1 200℃、1 400℃、1 700℃!30セグメントのPID自動制御により温度管理を行います

『OSK75YU IGM12/IGM14/IGM17』は、30セグメントのPID自動制御により 温度管理を行うガス置換マッフル炉です。 材料の出し入れが便利なボックス構造を採用。また、炉の外部に触れても 安全な空冷ファン付きの二層鉄骨構造となっています。 オプションとして”LCDタッチスクリーンコントロール”や”コンピューター 接続用プログラム ソフトウェア”もご用意しておりますので、ご用命の際は お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■最高温度1 200℃、1 400℃及び1 700℃の3タイプから選択可能 ■材料の出し入れが便利なボックス構造を採用 ■炉の外部に触れても安全な空冷ファン付きの二層鉄骨構造 ■30セグメントのプログラマブルPID自動制御 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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メッシュベルト式焼準炉 連続炉で雰囲気ガスを使用した熱処理が可能

最適なガスコントロールにより用途に応じた熱処理が実現します

搬送方法をメッシュベルト式とし、出入口をカーテン構造にすることにより、出入口に窒素をシャワー状に投入することで炉内の雰囲気を保ったまま無酸化での熱処理が可能となりました。 【仕様】 ● 温度:920~950℃ ● 有効寸法:W750 x L6000 x H180 ● 雰囲気:窒素 ● 用途:焼準 ● 処理物:非鉄金属 ● 処理量:200kg/h ● 電気容量:210kW 【その他の導入事例】 ■ 銅を酸化させず焼鈍したい →『真空光輝焼鈍炉』 ■ 鋼を完全焼鈍したい →『ピット型無酸化焼鈍炉』 ■ 鋳物を焼鈍したい →『台車式焼鈍炉』 ■ プレス品の大物部品を焼鈍したい →『台車式焼鈍炉』『ピット型焼鈍炉』 ■ 光学ガラス成型品のアニールしたい →『台車式アニール炉』 *詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』

卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。

◉ 卓上サイズ 省スペース:328(W) x 220(D) x 250(H)mm(*2inch用チャンバー参考値) ◉ カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1 〜Φ6 ウエハー、小片チップ焼成用 ◉ 昇温時間最速約15分(1500℃)、降温1500℃→100℃まで約40分(真空、およびガス置換雰囲気) ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ シンプルな構成、優れた操作性 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

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台車式焼鈍炉 厚みのあるワークでも規定の冷却時間で処理が可能

急冷や徐冷などの精密な温度コントロールにより生産効率を向上することができます

厚みのあるワークでも事前にシミュレーションを行なうことで必要な冷却風量を算出後、ファンを最適配置して冷却の規定時間を達成することができました。また、ワーク入替時の熱ロスを最小限に防ぎ、回転率や省エネ性能も上げることができました。 【仕様】 ● 温度:620〜700℃ ● 有効寸法:W2000 x L2000 x H1000 ● 雰囲気:大気 ● 用途:応力除去焼鈍 ● 処理物:炭素鋼 / ステンレス鋼 ● 処理量:3000kg/ch ● 電気容量:180kW 【その他の導入事例】 ■ 銅を酸化させず焼鈍したい →『真空光輝焼鈍炉』 ■ 鋼を完全焼鈍したい →『ピット型無酸化焼鈍炉』 ■ 鋳物を焼鈍したい →『台車式焼鈍炉』 ■ プレス品の大物部品を焼鈍したい →『台車式焼鈍炉』『ピット型焼鈍炉』 ■ 光学ガラス成型品のアニールしたい →『台車式アニール炉』 *詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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