特殊炉【単結晶引上装置】
丸祥電器社が取り扱う『特殊炉【単結晶引上装置】』
電気炉・雰囲気炉/加熱・熱処理技術のエキスパート企業 丸祥電器社が取り扱う『特殊炉【単結晶引上装置】』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■炉内寸法:Ф100mm×H250mm ■最高温度:2500℃ ■ヒーター:グラファイトヒーター ■真空排気:10-4Pa台 ■試料回転及び昇降機構を装備 ■詳細は、お問い合わせ下さい。
- 企業:丸祥電器株式会社
- 価格:応相談
更新日: 集計期間:2025年08月06日~2025年09月02日
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丸祥電器社が取り扱う『特殊炉【単結晶引上装置】』
電気炉・雰囲気炉/加熱・熱処理技術のエキスパート企業 丸祥電器社が取り扱う『特殊炉【単結晶引上装置】』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■炉内寸法:Ф100mm×H250mm ■最高温度:2500℃ ■ヒーター:グラファイトヒーター ■真空排気:10-4Pa台 ■試料回転及び昇降機構を装備 ■詳細は、お問い合わせ下さい。
集光加熱方式で約50℃/secの急速昇温、加熱ランプOFFで急冷も可能。各種雰囲気への対応
世界中の様々な研究機関で使用されている、米倉製作所の集光式加熱炉「IR Series(アイアールシリーズ)」は、近赤外線集光加熱を利用したIRイメージ炉です。 クリーンな環境構造で、超高速加熱冷却が行えます。 製品ラインナップとしては、6方向からの急速加熱冷却で従来の加熱炉に比べ、温度分布領域を飛躍的に拡大した「IR-HP(6放物面輻射)」、4方向からの急速加熱冷却で従来の加熱炉に比べ2倍の温度分布領域と急加熱「IR-QP(4楕円共有集光)」、2方向からの急速加熱冷却で従来の加熱炉に比べ顕微鏡観察を可能にした「IR-TP(2楕円共有)」を取り揃えております。 【主な特徴】 ○クリーン・省エネ・高性能 ○真空・ガス置換+観察 ○低電力で高速加熱(わずか4kwで1500℃/30sec) ○ヒータはタングステンフィラメントで、発熱温度は3400Kと高温 ○ワット密度はニクロムヒータに比べ、10~20倍 ○リアルタイムで温度制御が可能 ○コンパクトサイズ 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
各加熱ゾーンは別々に制御可能!熱電対、制御装置、加熱装置共にそれぞれ3組を装備
『OSK 97TG 12THt』は、金属材料、セラミック、ナノ、半導体、 粉末冶金など、新材料の焼結と高温熱処理に適した3ゾーン横型管状炉です。 セラミックファイバーを真空成形し、高温でも粉が落ちずエネルギーを 50%以上節約できるチャンバー材料を使用。 また、RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵しパソコンでの制御が可能です。 【特長】 ■セラミックファイバーを真空成形し高温でも粉が落ちず エネルギーを50%以上節約できるチャンバー材料を使用 ■熱電対、制御装置、加熱装置共にそれぞれ3組を装備 ■各加熱ゾーンは別々に制御でき3つの異なる温度領域を得ることが可能 ■RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵しパソコンでの制御が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
セラミックファイバーを真空成形!エネルギーを50%以上節約できるチャンバー材料を使用
『OSK 97TG 14THt』は、金属材料、セラミック、ナノ、半導体、 粉末冶金など、新材料の焼結と高温熱処理に適した3ゾーン横型管状炉です。 熱電対、制御装置、加熱装置共にそれぞれ3組を装備。 RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵し、パソコンでの制御ができます。 また、各加熱ゾーンは別々に制御でき3つの異なる温度領域を 得ることが可能です。 【特長】 ■セラミックファイバーを真空成形し高温でも粉が落ちず エネルギーを50%以上節約できるチャンバー材料を使用 ■熱電対、制御装置、加熱装置共にそれぞれ3組を装備 ■各加熱ゾーンは別々に制御でき3つの異なる温度領域を得ることが可能 ■RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵しパソコンでの制御が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ヒーターは炉内円周に配置されているため均一加熱が可能
最大500KPaの冷却ガスを高速循環させるため 急速冷却を可能にした、加圧冷却式真空炉
炉内圧カプログラム制御システムを装備した特殊炉
電気炉・雰囲気炉/加熱・熱処理技術のエキスパート企業 丸祥電器社が取り扱う『縦型マルチ雰囲気炉』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■炉内寸法:Ф380mm×H600mm ■常用/最高温度:700℃/800℃ ■炉内圧力:最高0.1MPa ■ヒーター:当社製モジュールヒーター(カンタル線エレメント) 縦型3ゾーン制御、真空置換型、 炉内圧カプログラム制御システムを装備 ■詳細は、お問い合わせ下さい。
高速度鋼の焼入を省エネルギー・長寿命にて実現する真空ガス焼入炉!
『SSVF-GIIS(W)』は、急速冷却を可能にした2室型ガス焼入炉です。 最大0.19MPaの加圧冷却ができる構造となっています。(低速冷却) 大風量ファン及び大容量熱交換器の採用により急速冷却が可能なだけでなく 冷却室下部より吸い込む冷却方式のため均一な冷却も実現しました。 オプションの上下交互ファン冷却を利用すれば大型品の均等冷却も可能。 さらに、中間扉の採用により、加熱室は完全に独立されており、 連続処理時は予熱を利用することでコスト低減ができます。 独立された加熱室は常にクリーンな状態で維持する事ができ、 高真空にすることなく光輝性が得られます。 【特長】 ■優れた冷却性能 ■コスト低減 ■均一な温度分布 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
炉床昇降式電気炉(生産炉)【高真空炉】
電気炉・雰囲気炉/加熱・熱処理技術の エキスパート企業、丸祥電器社が取り扱う 『炉床昇降式電気炉(生産炉)【高真空炉】』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■雰囲気ガス循環型プログラム冷却システム、炉床自動入れ替え システム等を装備することができ、ローコストで高い生産性を 得ることができる ■使用雰囲気はヒーターと断熱材の組み合わせによりエアー、 窒素、水素、酸素、アルゴン、ヘリウム等に対応が可能 ■使用ヒーターはニケイ化モリブデンヒーター、モリブデン、 タングステン、SiC、カンタル、ニクロム、グラファイト、 シーズヒーターと多彩で、多方面の使用に対応 ■常用/最高温度:700℃/750℃ ■ヒーター:カンタル線 ■炉内真空度:最高10-4Pa台 二炉床自動入替式 雰囲気循環式プログラム冷却システムを装備 ■標準仕様のモディファイは勿論、ユーザー特別仕様も 製作しています。詳細は、お問い合わせ下さい。
金属を高周波誘導加熱により溶解!研究開発用として多くのお客様にご利用頂いています
『SVM-1000』は、誘導加熱式溶解炉で、金属を高周波誘導加熱により 溶解する装置です。 ルツボのサイズや材質、溶解したい材料等によりカスタマイズが可能。 研究開発用として多くのお客様にご利用頂いています。 また、鋳型の形状はご要望の形状に合わせて製作いたします。 【特長】 ■金属を高周波誘導加熱により溶解する ■研究開発用として利用されている ■ルツボのサイズや材質、溶解したい材料等によりカスタマイズが可能 ■鋳型の形状はご要望の形状に合わせて製作できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール タッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御(又は手動調整) ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール タッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御(又は手動調整) ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。
パソコンでの制御が可能!熱電対、制御装置、加熱装置共にそれぞれ3組を装備
『OSK 97TG 17THt』は、金属材料、セラミック、ナノ、半導体、 粉末冶金など、新材料の焼結と高温熱処理に適した3ゾーン横型管状炉です。 各加熱ゾーンは別々に制御でき3つの異なる温度領域を得ることが可能。 セラミックファイバーを真空成形し、高温でも粉が落ちず、エネルギーを 50%以上節約できるチャンバー材料を使用しております。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■セラミックファイバーを真空成形し高温でも粉が落ちず エネルギーを50%以上節約できるチャンバー材料を使用 ■熱電対、制御装置、加熱装置共にそれぞれ3組を装備 ■各加熱ゾーンは別々に制御でき3つの異なる温度領域を得ることが可能 ■RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵しパソコンでの制御が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
各加熱ゾーンは別々に制御!2つの異なる温度領域を得ることが可能
『OSK 97TG 12THd』は、金属材料、セラミック、ナノ、半導体、 粉末冶金など、新材料の焼結と高温熱処理に適した2ゾーン横型管状炉です。 熱電対二組、制御装置二組、加熱装置二組を装備。 セラミックファイバーを真空成形し、高温でも粉が落ちずエネルギーを 50%以上節約できるチャンバー材料を使用しております。 また、RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵し、パソコンでの制御が 可能です。 【特長】 ■セラミックファイバーを真空成形し高温でも粉が落ちず エネルギーを50%以上節約できるチャンバー材料を使用 ■熱電対二組、制御装置二組、加熱装置二組を装備 ■各加熱ゾーンは別々に制御でき2つの異なる温度領域を得ることが可能 ■RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵しパソコンでの制御が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
大学、科学研究機関、工場などの産業で!金属材料などの焼結と高温熱処理に好適
『OSK 97TG 14THd』は、新材料の焼結と高温熱処理に適した 2ゾーン横型管状炉です。 セラミックファイバーを真空成形し、高温でも粉が落ちず、 エネルギーを50%以上節約できるチャンバー材料を使用。 熱電対二組、制御装置二組、加熱装置二組を装備しており、 最高温度は1,400℃、常用最高温度は1,300℃です。 【特長】 ■セラミックファイバーを真空成形し、高温でも粉が落ちず、 エネルギーを50%以上節約できるチャンバー材料を使用 ■熱電対二組、制御装置二組、加熱装置二組を装備 ■各加熱ゾーンは別々に制御でき、2つの異なる温度領域を得ることができる ■RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵し、パソコンでの制御が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
保護ガスや反応ガスまたは真空雰囲気が必要なプロセスに最適
LBVHTシリーズの昇降底型レトルト炉は、保護ガスや反応ガスまたは真空雰囲気が必要なプロセスに最適です。この機種は基本的にはVHTシリーズの構造です。電気油圧駆動の昇降底構造やサイズで、特に製造でのワーク装入が容易になります。サイズと仕様の炉を取り揃えています。またVHT型と同様、様々な加熱方式に対応しています。