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高周波誘導加熱真空溶解炉『SVM-1000』

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最終更新日:2020年12月03日

株式会社サンバック 本社
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金属を高周波誘導加熱により溶解!研究開発用として多くのお客様にご利用頂いています

『SVM-1000』は、誘導加熱式溶解炉で、金属を高周波誘導加熱により 溶解する装置です。 ルツボのサイズや材質、溶解したい材料等によりカスタマイズが可能。 研究開発用として多くのお客様にご利用頂いています。 また、鋳型の形状はご要望の形状に合わせて製作いたします。 【特長】 ■金属を高周波誘導加熱により溶解する ■研究開発用として利用されている ■ルツボのサイズや材質、溶解したい材料等によりカスタマイズが可能 ■鋳型の形状はご要望の形状に合わせて製作できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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高周波誘導加熱真空溶解炉『SVM-1000』

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基本情報

【仕様】 ■到達圧力:×10^-4Pa台以下 ※常温・無負荷・脱ガス・炉体無挿入時 ■排気速度:1.0×10^-3Pa以下迄30分以内 ※常温・無負荷・脱ガス・炉体無挿入時 ■溶解量:1,000g(鉄換算) ■加熱温度:~1,800℃ ■昇温性能:1,500℃迄20分以内(真空時) ■溶解室径:φ600mm×600mmH SUS304 ■付帯機構 ・炉体傾注機構:手動ハンドル型 ・ブリッジブレーカー(先端部:W) ・試料添加バケット:φ40mm×40mmH(5式) ・測温機構:W-Re5-26熱電対/温度計 ・水冷鋳型:SUS304/一本取(サイズや材質は指定可能) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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高周波誘導加熱真空溶解炉『SVM-1000』

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1995年創業の真空装置メーカー。25年以上、各薄膜装置・熱処理炉・溶解炉・乾燥炉を中心に「一品一様のカスタマイズ装置」を設計製作しております。 お客さまからのご要望に応じてご提案いたしますので、まずはご要望を「全て」お伺いいたします。

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