炉のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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炉(素材) - メーカー・企業と製品の一覧

更新日： 集計期間:2025年12月24日～2026年01月20日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

炉の製品一覧

61～73 件を表示 ／ 全 73 件

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真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉

◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造： - 円筒状ヒーター：るつぼ内サンプル焼成（固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用） - 面状ヒーター：Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール タッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御（又は手動調整） ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm（*ロータリーポンプ筐体内設置） 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

  • 加熱装置
  • アニール炉
  • 電気炉

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アニール炉 Mini-BENCH-prism Max2000℃

アニール炉 Mini-BENCH-prism Max2000℃

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉

◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造： - 円筒状ヒーター：るつぼ内サンプル焼成（固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用） - 面状ヒーター：Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール タッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御（又は手動調整） ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm（*ロータリーポンプ筐体内設置） 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

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“光輝焼準・光輝焼鈍”によくあるお困りごとと解決策

“光輝焼準・光輝焼鈍”によくあるお困りごとと解決策

熱処理依頼時によくあるお困りごとを解決！解決事例を掲載したハンドブックを無料進呈中！

株式会社中遠熱処理技研では、「焼準・焼鈍で硬さのムラが大きい・・・」など、 “光輝焼準・光輝焼鈍”に関するお困りごとを解決します。 熱処理依頼時によくあるお困りごとと、解決事例を掲載した ハンドブックを只今、無料進呈中！ 熱処理を外部に依頼している部品製造現場の方や技術者の方必見です。 【こんなお困りごとはありませんか？（一部を紹介）】 ■冷間鍛造品を浸炭焼入れしたところ結晶粒が 　粗大化して製品にならない・・・ ■焼準・焼鈍において素材熱処理だが、 　キズ・打痕は許さない品質のもの・・・ ■焼準・焼鈍した直径35ｍｍのシャフトが曲がった・・・ ※解決策は、PDF資料をダウンロードしてご覧ください。

  • その他表面処理装置
  • 加工受託
  • その他金属材料

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連載Part4：小型カーボン炉の主な用途

連載Part4：小型カーボン炉の主な用途

高温材料の合成・焼結や炭素系材料の高結晶化に！主な用途例をご紹介

前回は、小型カーボン炉の"原理"について紹介しました。 今回は、実際にどのような用途で使われているのか、またどのような 研究・開発に応用できるのかを紹介します。 ■主な用途例 1.高温材料の合成・焼結(～3000℃) カーボン炉ならではの極低酸素環境により、炭化物·窒化物などの 高融点材料を酸化させずに焼成可能。 2.炭素系材料の高結晶化 グラファイトやカーボンナノチューブなどの高結晶化に好適。 3.金属材料の高温処理·還元反応 金属酸化物を低酸素下で還元し、微細構造や相制御が可能。 4.高温ガス反応の評価 N2、H2、Arなど多様な雰囲気で、反応性ガスとの相互作用や材料安定性を検証。 5.研究開発·試作スケールでの材料プロセス評価 短時間で条件最適化を行うためのR＆D用途として。 今後は、より精密な酸素分圧制御を活かした新素材開発への応用を検討して います。次回は「仕様」について詳しく紹介します。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • 工業炉

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熱処理炉　『ヒーター　リフレクター　シールド　キャリア』

熱処理炉　『ヒーター　リフレクター　シールド　キャリア』

タングステン・モリブデン製ホットゾーンの設計からメンテナンスまでトータルサービスを提供。

真空中や制御雰囲気の炉内では、最高温度 が3000℃にも及ぶ事があります。その様な過酷な環境では、モリブデン、タングステン、タンタル、ニオブが最適な材料です。 特に高度な焼結技術、熱処理技術、真空ロウ付け、最先端研究などで使用される高温炉のホットゾーン構造体には、プランゼーの高温安定性とクリープ特性に優れた高品質材料と、長い経験とノウハウに裏付けられた確かな設計力が必要不可欠です。 プランゼーは創業以来90年に及ぶ粉末冶金技術と、最新の材料・接合技術・シミュレーションを活用し、お客様に最高品質の高温炉構造体と周辺部品をお届け致します。

  • 工業炉
  • アニール炉
  • 加熱装置

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焼鈍炉　『ヒーター　リフレクター　シールド　キャリア』

焼鈍炉　『ヒーター　リフレクター　シールド　キャリア』

タングステン・モリブデン製ホットゾーンの設計からメンテナンスまでトータルサービスを提供。

真空中や制御雰囲気の炉内では、最高温度 が3000℃にも及ぶ事があります。その様な過酷な環境では、モリブデン、タングステン、タンタル、ニオブが最適な材料です。 特に高度な焼結技術、熱処理技術、真空ロウ付け、最先端研究などで使用される高温炉のホットゾーン構造体には、プランゼーの高温安定性とクリープ特性に優れた高品質材料と、長い経験とノウハウに裏付けられた確かな設計力が必要不可欠です。 プランゼーは創業以来90年に及ぶ粉末冶金技術と、最新の材料・接合技術・シミュレーションを活用し、お客様に最高品質の高温炉構造体と周辺部品をお届け致します。

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電気炉　『ヒーター　リフレクター　シールド　キャリア』

電気炉　『ヒーター　リフレクター　シールド　キャリア』

タングステン・モリブデン製ホットゾーンの設計からメンテナンスまでトータルサービスを提供。

真空中や制御雰囲気の炉内では、最高温度 が3000℃にも及ぶ事があります。その様な過酷な環境では、モリブデン、タングステン、タンタル、ニオブが最適な材料です。 特に高度な焼結技術、熱処理技術、真空ロウ付け、最先端研究などで使用される高温炉のホットゾーン構造体には、プランゼーの高温安定性とクリープ特性に優れた高品質材料と、長い経験とノウハウに裏付けられた確かな設計力が必要不可欠です。 プランゼーは創業以来90年に及ぶ粉末冶金技術と、最新の材料・接合技術・シミュレーションを活用し、お客様に最高品質の高温炉構造体と周辺部品をお届け致します。

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連続式ストランド炉（線材光輝焼鈍炉）　

連続式ストランド炉（線材光輝焼鈍炉）　

ステンレスや非鉄金属など多種多様な材質の熱処理に対応可能

サンファーネスでは連続式の『連続式ストランド炉（線材光輝焼鈍炉）』を得意としています。ステンレス鋼線をはじめ、チタン合金などの非鉄金属などの材質の線材の熱処理にも対応可能です。処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて最適なストランド炉をご提案いたします。 【製品例】ストランド式炉でつくられる身近な製品例 ■ステープル ■眼鏡フレーム材 ■CPUヒートパイプ ■釣針 ■ばね用線材 ■ボルト・ナット用線材 ■金網 ■カテーテル用マーカーパイプ ■補償導線素材 ■溶接棒材 ■熱電対素線 制御盤のプログラムの工夫により電力コスト削減や作業効率を上げることも可能です。 小ロット生産 ・ 熱処理試験・ 少量サンプル製造などご相談ください。 ​ ※詳しくはお問い合わせ、またはPDFをダウンロードしてください。

  • 工業炉

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連載Part5：小型カーボン炉の主な用途

連載Part5：小型カーボン炉の主な用途

装置仕様と構成について紹介！装置サイズはさらに大型機にも対応可能

前回は小型カーボン炉の用途について紹介しました。 今回は、実際の装置仕様と構成について紹介します。 本装置は研究開発向けに設計されたコンパクトタイプで、限られたスペース でも設置が可能です。 真空および不活性ガス(Ar、N2)雰囲気での加熱に対応し、酸化を抑制した 安定した加熱環境を実現します。本仕様は研究用の小型装置のスペック例 となります。装置サイズはさらに大型機にも対応可能です。 【主な仕様】 ■設備外寸法：1000W×1000D×2100H mm ■炉内有効寸法：200W×200D×200H mm ■対応雰囲気：不活性ガス(Ar、N2)および真空 ■炉内材質：グラファイト ■ドア構造：前開き方式 ■真空ポンプ：ロータリーポンプ ■記録·監視：温度、流量、圧力など 【安全装置】 ■過昇温防止 ■冷却水低下検知 など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • 工業炉

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アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機

◾️ Max2000℃ ◾️ 有効加熱範囲：Φ6〜Φ8inch 枚葉式、又はバッチ式（多段5枚カセット） ◾️ ヒーター制御：1ゾーン、又は2ゾーン（カスケード制御） ◾️ ヒーター材質： ・C/Cコンポジット：Φ6〜Φ8inch ・PGコーティング 高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ◾️ 使用雰囲気： ・真空（1x10-2Pa）、不活性ガス（Ar, N2） ◾️ PLCセミオート運転 ・真空/パージサイクル、ベントの自動シーケンス制御 ・フルオート自動運転（オプション） ・タッチパネル操作、操作が分散せず一元管理が可能です。 ◾️ プロセス圧力制御 ・APCコントロール（MFC流量、又は自動開度調整バルブ PIDループ制御） ・MFC最大3系統流量自動制御、又はフロートメーター/ニードルバルブの手動調整 ◾️ PLOT画面グラフ表示、CSVデータ出力

  • アニール炉
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カーボン炉＜炭化の基礎反応試験に好適＞

カーボン炉＜炭化の基礎反応試験に好適＞

SiC/TiC/ZrCを高温・極低酸素で“速く・再現よく"。固相炭化・複合炭化(B4C併用)や炭素供給条件の最適化を短サイクルで

当社では、真空→不活性ガスへ段階置換できる小型の「カーボン炉」を 取り扱っております。 固相炭化(粉末混合法・被覆法・浸炭)や複合炭化(B4C併用など)による 高硬度化、炭素供給条件の最適化(炭素材の種類・比率・接触状態)などの 実験・プロセスに使用可能です。 ご要望の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【当社カーボン炉が選ばれる理由(一部)】 ■短時間で高温域へ ・1600-2800℃＊＊を安定到達・保持 ・炭化に効く温度目安：SiC 1600–2000℃、TiC 1500–2100℃、ZrC 1800–2300℃ ■極低酸素分圧で副反応を抑制 ・真空引き→Ar/N2へ置換 ・炉材カーボンのゲッタリングで残存酸素を低減、CO生成を抑える ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

  • 工業炉

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なぜ低酸素・超高温が実現できるか

なぜ低酸素・超高温が実現できるか

長年のシール設計・加工精度・組立手順により微小リークを抑制！長時間運転でも低O2をキープ

当社で取り扱う小型カーボン炉について、なぜ低酸素・超高温が実現できる のかをご紹介します。 カーボン炉材が残留酸素と反応し、“漏らさない"設計と製作ノウハウが 特長で、真空ポンプ＋置換で粉末内部の空気まで除去します。 放射率の高いグラファイトヒーター×均熱ホットゾーン×高断熱で効率よく 加熱し、局所過熱を避けつつ3000℃クラスまで安定到達が可能です。 【小型カーボン炉の特長】 ■3000℃まで昇温可能：グラファイトヒーターの輻射熱で短時間に超高温へ ■低酸素での焼成がしやすい：炉内カーボンが残留O2と反応 ■粉末内部の空気も置換：真空→不活性ガスの繰り返しで粒子間のO2を低減 ■温度ムラを抑制：均一に温める"均熱ゾーン"で中央/端部/厚み方向の差を縮小 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • 工業炉

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連載Part2：小型カーボン炉の開発背景

連載Part2：小型カーボン炉の開発背景

研究現場の課題や、解決の方向性、コンセプトなどをご紹介！

乾式·還元系の熱処理ニーズが高まる一方、現場では次のような課題が 目立ちます。 ■研究現場の課題 ・最大到達温度の制限(管状炉では材料・構造上の上限でレシピ設計が縛られる) ・仕込みサンプル量の制限(有効加熱域が狭く、スケール検討に不向き) ・極低酸素(ppm～ppb級)の維持が難しい(リーク/残留O2/ヒートショック 　由来の微細クラック等) ■解決の方向性(要求仕様) ・短時間で均一加熱：高速昇温・高い温度均一性・良好な応答 ・柔軟スケール：少量試料～小スケール量産まで連続的に対応 ・雰囲気制御：Ar/N2(必要に応じH2少量)＋低残留O2設計で極低酸素を安定化 ■コンセプト グラファイト発熱体×高断熱構造×低リーク設計。 試作～条件出しに最適化した小型カーボン炉で、乾式·還元プロセスを速く、 再現よく。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • 工業炉

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