真空蒸着
真空蒸着
蒸着加工を中心とした各種様々な工法により薄膜の製作が可能です(スパッタ加工・メッキ加工・メタライズ加工・PVD.CVD法等も取り扱っております) またフォトエッチング加工・リフトオフ・マスク加工あるいは精密スクリーン印刷法等の手法を用いて 複雑・微細なパターンの製作も致します。ガラス、金属、樹脂フィルム(ペット、アクリル、ポリミドその他)など多品種の基板に対応可能です。
- 企業:伸和商工株式会社
- 価格:応相談
更新日: 集計期間:2025年04月09日~2025年05月06日
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真空蒸着
蒸着加工を中心とした各種様々な工法により薄膜の製作が可能です(スパッタ加工・メッキ加工・メタライズ加工・PVD.CVD法等も取り扱っております) またフォトエッチング加工・リフトオフ・マスク加工あるいは精密スクリーン印刷法等の手法を用いて 複雑・微細なパターンの製作も致します。ガラス、金属、樹脂フィルム(ペット、アクリル、ポリミドその他)など多品種の基板に対応可能です。
あらゆる光学部品を少量試作から量産に至るまで対応しております
光学メーカーはもとより、情報・医療・事務・音響・映像・電子等の産業分野に高精度、高品質のオプチカルデバイスを提供致します。
PLUMEシリーズのプラズマソースを搭載可能!PVDやPECVDプロセスに対応
当社では、カーボンナノチューブ合成装置触媒蒸着を取り扱っております。 ハイブリッドリアクター構成によりPVDやPECVDプロセスに対応。 大気開放せずCNTやグラフェン合成の全てのステップ処理を実現し、 基板表面クリーニング、バッファー層成膜、触媒層を含めた 合成ステップに対応しております。 【特長】 ■MAGNIONシリーズのマグネトロン装置に PLUMEシリーズのプラズマソースを搭載可能 ■ハイブリッドリアクター構成により PVDやPECVDプロセスに対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
赤外線を透過させず(反射させて)、可視光を透過させることが可能です
IRカットフィルター1は赤外線を透過させず(反射させて)、可視光を透過させることが可能な誘電体多層膜です。イオンアシスト蒸着(IAD)による成膜で、シフトレスで緻密な膜を形成しております。 また可視光・赤外線だけでなく、任意の波長の透過・反射をさせることも可能です。 IRカットフィルターの設計・製作を一貫して対応。半値波長の指定、透過帯域、カット帯域の指定など、お客様のご要望に応じて、設計・製作致します。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
ほぼ真空にした空間で薄膜を形成する成膜技術!真空蒸着の原理についてご紹介
『真空蒸着』とは、ほぼ真空にした空間で、金属などの蒸着素材を加熱し、 蒸発もしくは昇華した粒子を基板の表面に衝突・付着・堆積させて 薄膜を形成する成膜技術です。 当社では、発熱体の両端に電圧をかけ、流れる電流によるジュール熱で 加熱する抵抗加熱式の真空蒸着装置を採用しています。 【特長】 ■ほぼ真空にした空間で、金属などの蒸着素材を加熱 ■蒸発もしくは昇華した粒子を基板の表面に衝突・付着・堆積させて薄膜を形成 ■抵抗加熱式の真空蒸着装置を採用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
機能面もご満足いただける仕上がり!小ロット多種品の生産にも対応可能なライン構成
当社では、化粧品容器全般、自動車エンブレム、自動車ダッシュボード部品、 携帯電話部品などの真空蒸着加工を主に行っております。 メーカー様のデザインをより魅力的に表現するため、塗装、スクリーン印刷、 ホットスタンプを併用しながら、金属的な装飾部分を主に真空蒸着の技術で表現。 製品の美しさはもちろんのこと、機能面もご満足いただける仕上がりに いたします。 【特長】 ■塗装、スクリーン印刷、ホットスタンプを併用 ■金属的な装飾部分を主に真空蒸着の技術で表現 ■製品の美しさはもちろんのこと、機能面もご満足いただける仕上がり ■小ロット多種品の生産にも対応可能なライン構成 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
アクリル、ゼオネックス、ポリカやPC系樹脂に対応する高耐久なコーティング
光学レンズ開発・製造を行っているnittohの『真空蒸着』についてご紹介します。 「樹脂製品用反射防止コーティング」は、アクリル、ゼオネックス、ポリカに 対して安定して低反射ARコート、アルミ増反射ミラーコート等高耐久の コーティングを提供。 「PC系樹脂用アルミコーティング」は、複雑な形状のPC系樹脂基板にCVDを 用いた保護膜を成膜し、高耐久アルミ反射ミラーコートを成膜することが 可能です。 【性能例(抜粋)】 <樹脂製品用反射防止コーティング> ■波長:450nm~650nmにおいて透過率95%以上 ■密着性:ニチバンCT18を密着させ一気に引き剥がし剥離しないこと ■高温高湿試験:60℃×90%×1000H ■高温試験:80℃ 50H ■低温試験:-30℃×1000H ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
下地が見えるようにする技術!乱反射等の不具合にも独自のノウハウを駆使し対応可能!
『レーザー剥離蒸着』は、高エネルギー密度のレーザー光を照射することに より、蒸着層を剥離させ、下地が見えるようにする技術です。 難形状な製品に懸念されがちな乱反射等の不具合にも独自のノウハウを駆使 することにより対応可能。 また数種類のレーザー機を保有しているので、形状・素材に適した機械で 加工を行えます。 【特長】 ■蒸着層を剥離させ、下地が見えるようにする技術 ■乱反射等の不具合にも独自のノウハウを駆使し対応可能 ■形状・素材に適した機械で加工可能(数種類のレーザー機保有) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
金属光沢と軽量化を実現!樹脂に蒸着をほどこして光沢を得る樹脂蒸着
宝永ゴムでは、樹脂に蒸着をほどこすと金属の光沢が得られる『樹脂蒸着』 を行っています。 高級感付加と共に、金属代替えとしてもメリットがあり、樹脂にて、反射鏡を 作ることもできます。 樹脂化する事により形状自由度が増し、軽量になり、製品重量や輸送時の 破損防止に反映されます。さらに、樹脂成形にする事により、コストを 抑えることができます。 【特長】 ■金属の光沢による高級感 ■形状自由度が増す ■軽量化による破損防止 ■コストダウン ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
真空蒸着でお困りのことはございますか?蒸着のことならなんでもお気軽にお問い合わせ下さい。
他では出来ない材料、形状にも対応できます。マスク蒸着、薄膜のパターン加工も出来ます。 お気軽にお問い合わせ下さい。
豊富なラインアップをご用意!有機分子の蒸着への応用が可能な電子ビーム蒸着のご紹介
トヤマが取り扱う電子ビーム蒸着『EFMシリーズ』をご紹介します。 UHV条件での超高純度サブモノレーヤーから多層薄膜の成膜に特化。 多くの実績のある「EFM 3」の他、イオンビームアシストタイプの「EFM 3i」 大型サンプル用の「EFM 4」など、豊富なラインアップがございます。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■有機分子の蒸着への応用が可能 ■豊富なラインアップ ■UHV条件での超高純度サブモノレーヤーから多層薄膜の成膜に特化 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
真空蒸着によるフッ素の表面処理の受託加工を試作から量産までお受けいたします。
カツラヤマテクノロジーの真空蒸着処理では膜厚10~20nmのフッ素薄膜を 金属やガラスに処理を行うことで基材表面に撥水性、撥油性、防汚性、離型性などの効果を付与させます。 効果確認用の小規模試作から実際の製品などで使用する為の量産までお受けすることが出来ます。 [特徴] ・処理する膜厚が10~20nmと非常に薄い膜となっており、金型などへ処理する場合に基材の寸法への影響を与えにくい ・深さ方向にはアスペクト比5まで対応(穴径1に対して深さ5) ・基材サイズ最大700mm□まで対応 ・無色透明の薄膜で光学部品にも光学影響を抑えることが出来る [主な採用実績] ・半導体封止用金型の離型処理 ・導光板、偏光板用Ni電鋳スタンパ金型への離型処理 ・業務用複写機の読み取り用ガラスへの防汚処理 ・業務用インクジェットプリンターヘッドへの撥インク処理 ・半導体研磨装置部品の防汚処理(スラリーの付着防止)
薄膜で上質なメタリックイメージを表現!深みのある意匠やカラーバリエーションを実現!
『蒸着』とは、真空中で金属や金属酸化物などの成膜材料を加熱して、 溶融・蒸発または昇華させて、基材や基板の表面に蒸発、昇華した粒子を 付着・堆積させて薄膜を形成する技術です。 当社は、基材フィルムにアルミ・スズなどを蒸着し薄く均一な金属膜を 成形することで、美しいメタリックイメージを再現。 また、コーティング、グラビア印刷技術と併用することで、様々な機能や 意匠も同時に付与することが可能です。 【特長】 ■NIIは誘導加熱るつぼ式の真空蒸着機を保有 ■普段蒸着している金属種はアルミとスズの2種類 ■スズは電波透過性の必要な用途で使用 ■基板搬送は巻取制御技術を駆使し、安定した走行を実現 ■データロギング機能で駆動管理、安定した品質を提供 ■膜厚モニタ管理により安定した品質を提供 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。