ほぼ真空にした空間で薄膜を形成する成膜技術！真空蒸着の原理についてご紹介
『真空蒸着』とは、ほぼ真空にした空間で、金属などの蒸着素材を加熱し、 蒸発もしくは昇華した粒子を基板の表面に衝突・付着・堆積させて 薄膜を形成する成膜技術です。 当社では、発熱体の両端に電圧をかけ、流れる電流によるジュール熱で 加熱する抵抗加熱式の真空蒸着装置を採用しています。 【特長】 ■ほぼ真空にした空間で、金属などの蒸着素材を加熱 ■蒸発もしくは昇華した粒子を基板の表面に衝突・付着・堆積させて薄膜を形成 ■抵抗加熱式の真空蒸着装置を採用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
全てはお客様のニーズから。生産活動を通じ、お客様の喜びを仕事のやりがい、そして人生の生きがいとし、存在価値の高い企業として雇用の創出及び地域社会に貢献し続け還元していきます。評論家であってはならず、志を持ち立案者であることを目標にします。業界にとらわれない提案型企業を目指します。モラール意識の高い企業となります。