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EB源増設ポート付！4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備えています！
当製品は、金属材料を対象とした3源切り替え式抵抗加熱蒸着装置です。 角型チャンバーにより、メンテナンス性が向上。 4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備えています。 【特長】 ■基板寸法：100×100 ■基板加熱温度：常用600℃ ■基板回転ホルダー ■水晶式膜厚計 ■EB源増設ポート付 ■抵抗加熱源：100A 3源切替式 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基板入射に対応する円弧型レール上に任意位置で固定可能！蒸着ポジションを調整できます
当製品は、アタッチメントフリーのKセルおよびコニカル型蒸着源を 備えた基板入射角可変型蒸着装置です。 任意の基板入射に対応する円弧型レール上に、任意位置で固定可能。 蒸着ポジションを調整することができます。 【Kセル】 ■ルツボ容量：2cc ■加熱温度：Max1,200℃ ■加熱制御電源 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
グローブボックス内でベルジャーを着脱し、基板や蒸着材料を交換・補充可能です！
当社が取り扱う『グローブボックス内収納型真空蒸着装置』をご紹介します。 50×50基板を蒸着可能な小型蒸着ベルジャーを、グローブボックス内に収納。 グローブボックス内でベルジャーを着脱し、基板や蒸着材料を 交換・補充することができます。 【特長】 ■50×50基板を蒸着可能 ■小型蒸着ベルジャーをグローブボックス内に収納 ■グローブボックス内でベルジャーを着脱し、 基板や蒸着材料を交換・補充できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
「真空蒸着用EB源・電源」総合カタログ 配布致します。
日新技研社が取り扱う、真空蒸着用EB源・電源の総合カタログです 蒸着物質に対して、電子ビームを照射し再現性のある蒸着を行います ◆◆掲載製品◆◆ ○第三世代光学超多層膜用EB源：NEG-10N型 ○超小型EB源：NEG-05N型 ○カスタマイズ可能EB源：NEG-06Nシリーズ ○5kw電源：NEB-05S型 ○5kw電源：NEB-05W型 ○10kw電源：NEB-10W型 ○10kw電源：NEB-10WE型 ○各種付属品 ◆◆その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい◆◆
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ, RIEプラズマエッチング, CVD,アニールなどの幅広い目的に対応。 ・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃） ・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング ・CVD（熱CVD, PECVD） *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ 抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ◉ 有機蒸着源 x 最大4 ◉ マグネトロンスパッタリングカソード x 4 ◉ 電子ビーム蒸着 ◉ ドライエッチング ◉ アニール
卓上小型サイズの高真空蒸着装置です。 カーボン蒸着・金蒸着・アルミ蒸着・クロム蒸着などが簡単に実現可能です。
★ VE-2013はVE-2030（弊社製）のコンセプトを継承した簡易型真空蒸着装置です。 ★ TMPを筐体内に内蔵したコンパクトな筐体を実現。デスクトップ型なので設置場所を取りません（RPは床置き）。 ★ 小型TMP＋RPの排気系により清浄高真空の蒸着装置を低価格で提供。 ★ 排気操作はタッチパネルスイッチのON／OFFのみで全自動制御。 ★ タングステンバスケットの使用で金・アルミニウム・クロム・銀などの蒸着が出来ます。 ★ カーボン蒸着はφ0.5mmの専用カーボンを蒸着するクランプ蒸着銃タイプを使用。 （φ5mmカーボンロッドは使用出来ません。）
拡張性、操作性、安全性はSDタイプ同様に充実しています。
DH300HD（G/M）は低騒音タイプの磁気浮上型TMPを搭載したハイグレードタイプで、メインのアングルバルブと粗引きラインを配置することによりTMPの汚染を防止するとともに、ポンプを停止することなく試料交換を行うことが可能です。さらに蒸着モニタを標準装備していますので、より精度の高い膜厚制御や自動成膜を行うことも可能となります。
精密品から海上輸送の大型構造物まで、非鉄金属加工のスペシャリスト！
今日、あらゆる産業の分野で、急速なイノベーションが進んでいます。より「軽く」、より「強く」、そして、より「ロングライフ」に…企業のニーズは、ますます多様化し、個性化しています。赤星工業は、創業以来、常に「顧客志向」、「品質本位」をモットーに価値ある非鉄金属加工品を提供し、多くの皆様のご要望とご期待に応えてまいりました。そして、今、急激に変化する時代の中で、いかなる企業のニーズにも迅速に対応できるハイテクノロジーの開発とその技術集約的な生産体制づくりに取り組んでいます。私たちは、「特異性のある、誇れる仕事を達成して行くこと」こそが企業の存在理由であり、また、私たちをよりよく生かす道だと信じています。A leading company of nonferrous technology－worldwide. 次なる世代へ向けて、赤星工業が目指す新しい企業像です。詳しくはカタログをダウンロードしてください。
小型ロールコーターで経営革新計画が承認されました
真空蒸着装置のことなら株式会社富士アールアンドディーにおまかせください。 詳しくはお問い合せください。
真空部品や真空システムの販売などを行っています。
株式会社AlphaPlusは、韓国にある真空部品や真空システムの販売などを行っている会社です。 各種蒸発源や各種の超高真空装備に使用されるイオンポンプなどの「真空部品」、各種蒸着機、金属や無機物薄膜製造に使用されるスパッタリング蒸着機、ベーパライゼーション蒸着機などの「真空システム」、多くの金属や無機物薄膜製造に使用される「スパッタリングガン」などを取り扱っております。 【取扱製品】 ○スパッタリング蒸着機 ○ベーパライゼーション蒸着機 ○蒸発源/装置(Effusion Cell)&プラズマセル ○スパッタリングガン ○イオンポンプ 他 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
ブロックを組み立てるように自由自在に構成を変更可能な多目的真空蒸着装置｜スパッタリング・抵抗加熱蒸着・電子ビーム蒸着・有機蒸着
HEXシステムは、ユニークな『モジュール構造』が採用されています。 六角柱の形状のチャンバーの、各面を構成するパネルを交換することで 自由自在にポートの数や配置を変更することができます。 そのため、研究の方向性の変化に応じて、まるでブロックを 組み立てるような要領で、自分自身で簡単に構成変更や機能拡張を 行うことができます。 HEXシステムは、ベンチトップシステムとUHVシステムの間を補う、 コンパクトで拡張性の高い、新しいコンセプトの真空蒸着装置です。 ◆『モジュール構造』により自由自在にシステム構成を変更可能 ◆スパッタ、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、有機蒸着に対応 ◆複数ソースによる同時成膜に対応 ◆サンプル回転、加熱、水冷に対応 ◆膜厚計を搭載可能 ◆設置面積60cm x 60cmのコンパクト設計 ◆優れた拡張性およびメンテナンス性 ◆グローブボックス対応（リチウムイオン電池など） 詳しくは＜PDFダウンロード＞よりカタログをご覧ください。 ご不明な点がございましたら、お気軽にお問い合わせください。
TEM･SEM･EPMA 用前処理装置/薄膜･電極膜作製装置としてお使いいただける真空蒸着装置
ラボテック株式会社 の『LA-V5050』は、スタンダード抵抗加熱式真空蒸着装置です。 デスクトップ型低価格ターボ式真空蒸着装置、操作性重視のコンセプト設計製品です。 スピーディーに高真空状態が可能で TEM・SEM・EPMA用の前処理作製が可能です。 また、カートリッジホルダの選択で薄膜デバイス/電極膜作製装置として使用可能です。 【特長】 ■デスクトップ型 ■操作性重視 ■スピーディー ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。
蒸着源はボートタイプ！基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任意に変更可能
『2次元抵抗加熱蒸着装置』は、簡単に2つの材料を抵抗加熱により蒸着出来る 装置です。 蒸着源はボートタイプで、基板は支柱上のプレートに取付けられており、 高さは任意に変更可能。 排気系は、DPとRPを併用しておりますので、短時間で高真空が得られます。 【特長】 ■SUS製上チャンバーには、CF70ポートが2式、50φの窓が2式、 又下チャンバーはCF70ポートが6式標準装備されている ■上チャンバーは電動にて上下する機構を有している ■標準で膜厚計を装備するとともに、ガス雰囲気にする事も可能 ■2元の材料を簡単に蒸着出来る ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置
『Mebius』は、学生向けの実験や教材作りに適した、コンパクトな 蒸着装置です。 電源は一般家庭のAC100V壁コンセントから導入が可能。 チャンバは分割方式により多くの用途に応じたサブチャンバを 搭載可能です。 【概要】 ■蒸発源はタングステンボート2個搭載 ■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの組合せ ■操作不要のマルチ真空ゲージ採用により、大気圧から高真空まで連続した 圧力表示が可能 ■マグネット駆動式基板シャッタ装備 ■停電時は装置動作自動中断、非常停止スイッチも装備 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
