低温(室温)ALD装置 CMVA-1000
ALDでは難しいと言われている低温(室温)での高品質な成膜が可能！
【特徴】 ・バブリングH2O/Ar及びHighDencityPlasmaを使用したOHラジカル酸化 ・緻密でcovaregeの良好な膜形成緻密で均質、かつ均一の厚みの膜が形成可能 ・ほとんどの金属酸化膜に対応可能 ・どのような基板（材質、平坦性、形状等々）でも密着性良く成膜可能 ・用途に応じた膜厚の制御が可能 ・室温で成膜可能 【応用例】 ・大面積対応可能 ・TGV/防湿膜 【成膜のご相談やテスト成膜可能です】 クリエイティブコーティングスでは、テスト成膜やサンプル作成を承っております。 お客様のご要望を聞きし、適した装置、膜種や膜厚のご提案も可能です。 まずはお気軽にご相談ください。 ++++++++++++++++++++++++++++++ 時代と環境が求める次世代の気相技術を提供します。 半導体向け低温(室温)ALD装置と粉体低温(室温)ALD成膜装置の二刀流技術で技術革新に貢献します。
- 企業：株式会社クリエイティブコーティングス
- 価格：応相談
