1～2 件を表示 ／ 全 2 件
厳しい環境下で必要とされる防衛用の様々なアプリケーションに応用可能！
当社では、CVD Ceramics社の化学気相成長法（CVD法）によって 製造している硫化亜鉛『CVD Zinc Sulfide(R)』および『Cleartran(R)』を 取り扱っています。 これらの材料は化学的に不活性で、吸湿性も無く、高密度なことから 機械加工性に優れており、円形、長方形などレンズ、プリズム、 ドーム形状への加工が容易に可能です。 【特長】 ■優れた機械強度と耐環境性 ■可視域（0.35nm～）に透明なクリアトラン ■低散乱 ■化学的に不活性 ■非吸湿性 ■簡易な機械加工性 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
横の許容は+0.2/0-0mm、厚さの許容は+/-0.05mm！電子グレードCVDについてご紹介します
ダイヤモンド合成のCVD法の目覚ましい進歩により、放射線検出に適した 特性を持つダイヤモンドを定常的に製造することが可能になりました。 CVD法の継続的な改善により、将来的にはエキサイティングな進歩を遂げ、 大面積のホモエピタキシャル成長単結晶ダイヤモンドプレート/フィルムを 提供しています。 CVDダイヤモンドが示す有望な結果により、RFダイオード、BJT、FET、MEMS、 電子産業など多くのアプリケーションがあります。 今後も継続的な技術革新と継続的な努力が、放射線治療用線量計などの 医療分野に方向性を与えていくことでしょう。 【仕様と公差】 ■横の許容：+0.2/0-0mm ■結晶方位(ミスカット)：+/-3° ■結晶学：通常100%シングルセクター{100} ■エッジ：レーザーカット ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
