真空UV硬化装置『ＫＮＵＶ－１』
真空環境下でのＵＶ照射により硬化処理効率ＵＰ！ 最大８インチまでのウェハリング対応！ デモ及びカスタマイズ可能！
★ 真空環境下でのＵＶ照射により硬化処理効率ＵＰ！ ★ 最大８インチまでのウェハリング対応！ ★ 窒素パージ不要でランニングコスト削減！ ★ 工程ウエハ処理に最適！ ・酸素濃度を真空環境にして ＵＶ照射すれば硬化不良を低減 ・デバイス直下のボイドも真空環境により除去 大気圧(10万Pa)での酸素濃度（約20％） 本機真空チャンバー圧(5Pa)での 酸素濃度⇒ ０．００１％◇ 主要性能 ・到達圧力： 6.0Pa 以下 ガスバラスト閉時） ・リークレート： 10.0 Pa/min 以下 最大排気速度 500L/min ドライポンプを使用 ビルドアップ基準値： 1.0Pa ・ L / sec をチャンバー容積に換算 ・ UV 照射性能 高圧水銀ランプ採用により、短時間高出力 UV 照射を実現 例） 積算光量： 27.5sec 照射で 550mJ/cm2 ・プロセス時間 1 プロセス 60 s 以下 排気スタートから UV 照射完了まで ※ユーザーワークにて事前評価可能！ ※ユーザー毎のカスタマイズ可能！
- 企業：KNE株式会社
- 価格：応相談
