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KNUV-1

最終更新日:2022年01月17日

KNE株式会社
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真空環境下でのUV照射により硬化処理効率UP! 最大8インチまでのウェハリング対応! デモ及びカスタマイズ可能!

★ 真空環境下でのUV照射により硬化処理効率UP! ★ 最大8インチまでのウェハリング対応! ★ 窒素パージ不要でランニングコスト削減! ★ 工程ウエハ処理に最適! ・酸素濃度を真空環境にして UV照射すれば硬化不良を低減 ・デバイス直下のボイドも真空環境により除去 大気圧(10万Pa)での酸素濃度(約20%) 本機真空チャンバー圧(5Pa)での 酸素濃度⇒ 0.001%◇ 主要性能 ・到達圧力: 6.0Pa 以下 ガスバラスト閉時) ・リークレート: 10.0 Pa/min 以下 最大排気速度 500L/min ドライポンプを使用 ビルドアップ基準値: 1.0Pa ・ L / sec をチャンバー容積に換算 ・ UV 照射性能 高圧水銀ランプ採用により、短時間高出力 UV 照射を実現 例) 積算光量: 27.5sec 照射で 550mJ/cm2 ・プロセス時間 1 プロセス 60 s 以下 排気スタートから UV 照射完了まで ※ユーザーワークにて事前評価可能! ※ユーザー毎のカスタマイズ可能!

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真空UV硬化装置『KNUV-1』

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基本情報

[主要諸元] 装置寸法 590 mm(W) x 480 mm(D) x 880 mm(H) 照射エリア Φ 210mm [標準] 最大 φ300mm 装置質量 200 kg ポンプ含まず 電 源 単相 AC200V 10 50/60Hz 1.5 kVA エアー源 0.4 MPa 以上 0.6 MPa 以下 操作部 4.3 型 TFT カラー液晶モニター、非常停止、 USB ポート 1 ヶ UV ランプ 高圧水銀灯 オゾンレスタイプ 主波長 365nm 発光長 200mm 真空ポンプ 最大排気速度: 500 L/min

価格帯

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用途/実績例

工程ウエハ処理に最適 大気圧での UV 照射に比較して、3倍以上の硬化率の向上効果

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KNE株式会社は、単に「人がやっている仕事」を自動化する置換え設備ではなく、 人の手では不可能な仕事を自動でこなす、ハイレベルな自動化設備を 開発・製造・販売します。 0.2mm x 0.1mmの微細な部品のハンドリング、電子材料の高精度な塗布など、 お客様の「やりたい」を実現し、「困った」を解決する設備をご提供。 電子部品製造分野に限らず、機械部品やその他すべての「モノづくり」の 現場が、私たちのフィールドです。

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