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【分析事例】デバイスの金属膜中および界面における金属不純物の評価

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最終更新日:2026年04月02日

一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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めっきなどの膜中・界面の不純物をTOF-SIMSで評価できます。

成膜装置部品、ターゲット材、めっき液などからデバイス中に不純物が混入し、悪影響を与えるため、表面、膜中や界面の不純物の定性評価が重要です。TOF-SIMSでは下記3つの特徴から一度の測定で表面、膜中や界面に存在する未知の元素を高感度に評価することが可能です。 1. 金属元素の場合、一度の測定でm/z 1から800のイオンを同時に検出できること 2. 数ppmの検出感度が得られること(材料・各イオンにより変動) 3. スパッタガンを用いることで深さ方向の分布を評価できること

    ウエハーその他半導体受託測定
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【分析事例】デバイスの金属膜中および界面における金属不純物の評価

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測定法:[TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法 製品分野:LSI・メモリ、パワーデバイス、光デバイス、電子部品、製造装置・部品、酸化物半導体 分析目的:故障解析・不良解析、製品調査

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LSI・メモリ、パワーデバイス、光デバイス、電子部品、製造装置・部品、酸化物半導体の分析です。

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MSTは、高度な受託分析サービスを提供する財団法人です。 最先端の「物理的解析」と、AI技術を活用した「高度なデータ解析」を融合させることで、従来の分析の枠を超えた多角的な視点を提供し、お客様の高度なニーズに迅速かつ的確にお応えします。 技術知識を兼ね備えた専門スタッフが、お客様の課題に寄り添い、最適な分析プランをオーダーメイドでご提案いたします。オンラインでの打ち合わせはもちろん、貴社への訪問による対面でのご相談も承っております。 また、ISO9001(品質)およびISO27001(情報セキュリティ)を取得しており、機密性の高いプロジェクトにおいても、確かな技術力と厳格な管理体制のもと、安心してお任せいただける環境を整えています。製品開発の加速から不良原因の究明、特許調査まで、研究開発のあらゆるフェーズにおける課題を、確かな分析技術で解決へと導きます。

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