低真空スパッタリング
低真空の成膜環境を用いた成膜技術です
低真空環境による多角的な成膜角度により立体物への成膜が可能です。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業:京浜光膜工業株式会社
- 価格:応相談
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低真空の成膜環境を用いた成膜技術です
低真空環境による多角的な成膜角度により立体物への成膜が可能です。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【技術資料を無料進呈】緻密で硬質な成膜が可能!自動車のミラーなどの生産にも応用
フィルムやガラスの基材の表面に薄膜を形成する手法には、塗布、印刷、 めっき、蒸着などがありますが、金属やセラミックで構成されるナノレベルの 薄膜を精度高く形成するために使われるのが「スパッタリング」という技術です。 実際のスパッタリングにおいて「石」の役割を果たすのが、真空の容器 (真空チャンバー)内に充填されたアルゴン(Ar)などの不活性ガスです。 スパッタリングでは真空中にアルゴンガスを導入し、ターゲット材料にマイナスの 電圧を印加することで、蛍光灯でも使われているグロー放電を発生させます。 するとプラスの電荷を帯びてプラズマ化したアルゴンイオンは超高速(秒速約3.2km) でターゲット材料の表面に衝突し、ターゲット材料の粒子(原子・分子)を激しく 弾き飛ばします。 弾き飛んだ粒子は勢いよく基材の表面に付着し、それが堆積することで、薄膜が 形成されます。これが、スパッタリングの原理です。 ※記事の詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
真空装置により酸化防止すること、効率においてはターゲット材の寸法公差などが重要!
コーテイングにはウエットコーテイング(メッキ)とドライコーテイング があり、ドライコーテイングの「スパッタリング」は真空装置内で コーテイング材料としてターゲット材を使用して薄膜を生成する方法です。 スパッタリングにおいては、成膜品質の面では高純度のターゲット材を 使用し真空装置により酸化防止すること、効率においてはターゲット材の 寸法公差などが重要な要素となります。 同じくドライコーテイングの蒸着に比べて・膜の付着力が強い・合金系・ 化合物の組成が変化しない・高融点材料でも使用可能・加工時間制御により 膜厚コントロールが可能・大面積に対し均一な成膜が可能などのメリットが ありますが、真空装置の性能が大きく影響するため同装置の定期的メンテナンスが 必要となります。 【特長】 ■膜の付着力が強い ■合金系 ■化合物の組成が変化しない ■高融点材料でも使用可能 ■加工時間制御により膜厚コントロールが可能 ■大面積に対し均一な成膜が可能 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。