スパッタリングの基礎知識
【技術資料を無料進呈】緻密で硬質な成膜が可能！自動車のミラーなどの生産にも応用
フィルムやガラスの基材の表面に薄膜を形成する手法には、塗布、印刷、 めっき、蒸着などがありますが、金属やセラミックで構成されるナノレベルの 薄膜を精度高く形成するために使われるのが「スパッタリング」という技術です。 実際のスパッタリングにおいて「石」の役割を果たすのが、真空の容器 （真空チャンバー）内に充填されたアルゴン（Ar）などの不活性ガスです。 スパッタリングでは真空中にアルゴンガスを導入し、ターゲット材料にマイナスの 電圧を印加することで、蛍光灯でも使われているグロー放電を発生させます。 するとプラスの電荷を帯びてプラズマ化したアルゴンイオンは超高速（秒速約3.2km） でターゲット材料の表面に衝突し、ターゲット材料の粒子（原子・分子）を激しく 弾き飛ばします。 弾き飛んだ粒子は勢いよく基材の表面に付着し、それが堆積することで、薄膜が 形成されます。これが、スパッタリングの原理です。 ※記事の詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
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