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SiCは共有結合性が強いセラミックスで、アルミナを上回る硬度があります。特に高温強度に優れており、耐食性も優れています。
硬度が高いため、摺動摩耗に強い特性も兼ね備えています。 熱伝導率も高いです。 炭化珪素(SiC)は、半導体製造装置やLED製造装置などのチャンバー内部品、エッチング装置用基板トレーや、焼成用治具(コンデンサー他） などに使われています。 炭化珪素(SiC)は、耐熱（1 000度以上でも）性や耐薬品性（耐プラズマ性）、耐磨耗熱伝導率の良さ、緻密さ、強度が生かされています。 こんな使い方はいかがでしょうか→SiCでの薄型製品化が可能ですから、熱効率が良く、トレーやセッターとしてご利用を検討下さい。 電子基板用の焼成炉セッターなどに、薄いSiC板での対応が可能です。
多孔質セラミックスとは、たくさんの気孔（ポーラス）があるセラミックスのことです。
アスザック株式会社 ファインセラミックス事業部では多孔質セラミックスを手がけ始め、材質として、多孔質アルミナ・多孔質SiCの2種類を取り揃えております。 現在 数種類のラインナップがあり、用途別に皆様のご要望にお応えしています。 独自の成形技術により自由な気孔径、気孔率が可能な多孔質セラミックスを提案します。 多孔質セラミックスは、薄いウエハ・薄いフィルムなどの吸着治具として使用されています。 ガスは通しますが、プラズマは通さない為、プラズマ装置の治具として使われています。 多孔質のセラミックスですので、絶縁性・耐熱性があります。 大きさによりますが、平面平行度5μm程度が可能であり、装置の高精度化が可能になります。 こんな使い方はいかがでしょうか→ 一般的なアルミナの多孔質セラミックスの他に、SiCでの多孔質セラミックスも取り扱っておりますので、アルミナでは対応できない環境（急冷・急熱・フッ酸系の薬品使用）でのご利用に多孔質SiCを検討下さい。 急冷・急熱が必要な光学レンズ製造型でのご利用はいかがでしょうか。
アルミナは電気絶縁性が高く、耐摩耗性、化学的安定性もある割に比較的安価で、 ファインセラミックスの代名詞的な材質です。
アスザックでは、高純度、高性能な各種グレードのアルミナセラミックスを取り揃えています。 アルミナ板のネット販売もしております。（http://www.asuzac-ceramics.jp/shop/shopenter.htm） アルミナは、半導体製造装置や液晶製造装置などのチャンバー内部品や搬送アームに使用されています。 アルミナは、電気絶縁性(1015Ωcm)が高いのでチャンバー内での絶縁部品として、搬送アームは金属や樹脂と比べて曲げ強度があることから反りが発生しにくいためアーム自体を薄くできます。 こんな使い方はいかがでしょうか→ 大型アルミナ（3m以上の製品も可）や空洞セラミックス化（接着剤無しでのトンネル形状）が可能なので、半導体Φ450ウエハ製造装置や液晶G10ガラス基板製造装置などでの大型セラミックスも対応できます。
