多結晶シリコンSiポリシリコンターゲットN型P型NonDope
多結晶シリコンターゲット蒸着用CVD装置、アニール炉拡散炉などの装置の部材として使用、高い純度と熱特性が求められる用途に最適材料
■純度>99.999% ■密度(2.33/cm³) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業:株式会社スパッタコア 本社
- 価格:応相談
更新日: 集計期間:2025年12月03日~2025年12月30日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日: 集計期間:2025年12月03日~2025年12月30日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日: 集計期間:2025年12月03日~2025年12月30日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
1~6 件を表示 / 全 6 件
多結晶シリコンターゲット蒸着用CVD装置、アニール炉拡散炉などの装置の部材として使用、高い純度と熱特性が求められる用途に最適材料
■純度>99.999% ■密度(2.33/cm³) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
高純度・高品質のレベルが違う、薄膜形成材料のマストアイテム!
『スパッタリングターゲット』は、純度99.5%~99.999% までの高純度品を誇る、高品質薄膜形成材料です。 当社では、お客様のビジネス用途にマッチした 各種スパッタリングターゲットの製作が可能。 ターゲット材の選定からボンディング加工、評価まで、 スパッタリングターゲットに関するすべてをおまかせください。 【特長】 ■純度99.5%~99.999%までの高純度品を誇る ■開発用として合金の製作も可能 ■様々な種類のスパッタリングターゲットの製作実績あり ■様々なご要望にお応え可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ターゲット材(レアアース)など、お客様の多様なニーズにお応えします!
弊社は、「明日に向けて、明るい未来を創る」を目標に従って業員一同一丸となって生産に努め、お客様の要望にお応えし、信頼と高品質なレアアース製品を生み出します。
製品性能を向上させるため、お客様との共同開発にも積極的に取り組んでいます
当社では、先進の製造工程の要となる、超硬工具や生産ラインの 量産用の金型、激しい摩擦に晒される摺動部品の表面改質に不可欠な ターゲット材の提案を得意としております。 その中でも、PVD方式(Physical Vapor Deposition)に使用される ターゲットを最も得意としており、アークイオンプレーティング法、 スパッタリング法の両方式に対応しています。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【当社が得意な製品】 ■タングステンカーバイド ■ターゲット開発 ■防着板 ■Low-Eガラス向けターゲット ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
透明電極としてや画面の視覚情報を損なわずに画素を制御するために使用可能な酸化物!
■酸化物ターゲット ■製造方法:粉末冶金法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
スパッタリングターゲット材について
スパッタリングターゲットは、 Cr,Ti,CrAl,WC、その他多種類の材料を取り揃えており、 形状・寸法につきましても丸状、板状、棒状など お客様のニーズにより対応致しますので、ご要望をお待ちしております。