CVD装置、アニール炉、拡散炉などの装置の部材として使用！高い純度と熱特性が求められる用途に適した多結晶シリコン材料！
■純度>99.999％ ■密度（2.33/cm³） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
■製造方法：溶解法と焼結法 ■様々な形状に対応可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
【主な用途】 半導体デバイス エッチングマシン電極 ■用途 CVD装置、アニール炉、拡散炉などの装置の部材として使用されます。 高い純度と熱特性が求められる用途に適し、スパッタリング成膜プロセスで使用される材料として用いられ、 液晶製造装置の部品としても利用され、薄膜シリコン太陽電池の製造など、太陽光パネルの製造にも使用されます。 単結晶に比べて製造コストを抑えられるため、大量生産に適し、ギヤ、センサー、マイクロ静電モータなどのマイクロ構造体の研究や試作にも利用されます。
企業情報
当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて 世界トップレベルの技術をもつ日系中国現地法人工場を長年の経験を持つエンジニアを共に 継承した蘇州テクノテック光電材料有限公司と緊密な協力関係を築いております。 この連携により高品質でコストに優れた製品・サービスとともに お客様ニーズを的確に捉え、最適で最高レベルの製品・サービスをご提供します。 当社はお客様事業の発展を第一に考え、創造性と技術力を最大限に活かしお客様へ新たな価値をご提供していきます。