チラーのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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チラー×エムエス機器株式会社 - メーカー・企業と製品の一覧

チラーの製品一覧

1~15 件を表示 / 全 39 件

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冷却水循環装置 熱交換式チラー『SYSTEMシリーズ』

1次冷却水量は最小限にコントロールされるため、ランニングコストが抑えられます。

サーモフィッシャーサイエンティフィック(Thermo Fisher Scientific社)のクールフローSYSTEMシリーズは、冷凍機冷却システムを使用せず、循環水で吸収した熱を水道水や自家水で冷却する、水と水による熱交換方式による大容量かつコンパクトな循環冷却装置です。 冷却水には純水を使用するので、冷却ラインにおける様々な汚染物質による問題点を克服します。 【ラインナップ】 ○SYSTEM-1 ○SYSTEM-2 ○SYSTEM-3 ○SYSTEM-4 ※詳細は、カタログをダウンロードするかお問い合わせください。

  • 冷却装置

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ペルチェ冷却チラー UCシリーズ

超小型!静かな動作音!正確な温度コントロール!ペルチェ冷却チラ-

超小型、静かな動作音。最も信頼できる電子温調モジュールにより、正確な温度コントロールを提供致します。循環水の温度変化に素早く応答して室温付近の温度制御さえも±0.1℃の温度安定性を維持します。 この手のひらサイズのチラーは装置の内部・上部に容易に設置できます。また、標準装備のRS232Cインターフェィスにより簡単に外部制御をおこなうことができます。

  • チラー

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Thermo Wrap Kit

MOCVD向けに環境に優しくコストパフォーマンスに優れた画期的な商品が登場しました!

小型ペルチェチラーと専用熱交換パッドがセットになったThermo Wrap Kit(サーモラップキット)は、従来型コンプレッサー方式の開放バスを使わずにバブラーを±0.1℃の精度で温度制御します。 【特徴】 ・バブラーを±0.1℃で精密に温度制御します ・冷却・加熱・常温付近での制御が可能です ・密閉循環ですので冷却液の蒸発も無く⾼額なフッ素系冷媒も使⽤しません ・バブラーにラップを巻きつけるだけですので使い方は至って簡単です ・ペルチェチラーを使⽤するので従来のバスタイプに⽐べて消費電⼒を80%削減できます ・改正フロン法(2015)に該当するフロン類は⼀切使⽤していません

  • チラー

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温度制御チラー『ThermoRack1201』 

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音・振動も防止!

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働します。 【特長】 ■消費電力を最大93%削減 ■冷却水使用量を最大60%削減 ■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計 ■騒音・振動を低減 ■19インチラックに収まるサイズで省スペース

  • チラー

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消費電力大幅削減ペルチェチラー UCシリーズ

超小型!静かな動作音!正確な温度コントロール!ペルチェ冷却チラ- 

超小型、静かな動作音。最も信頼できる電子温調モジュールにより、正確な温度コントロールを提供致します。循環水の温度変化に素早く応答して室温付近の温度制御さえも±0.1℃の温度安定性を維持します。 この手のひらサイズのチラーは装置の内部・上部に容易に設置できます。また、標準装備のRS232Cインターフェィスにより簡単に外部制御をおこなうことができます。

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プラズマエッチャーチラー『ThermoRack1201』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音・振動も防止!

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働します。 【特長】 ■消費電力を最大93%削減 ■冷却水使用量を最大60%削減 ■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計 ■騒音・振動を低減 ■19インチラックに収まるサイズで省スペース

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レーザー装置に最適!ペルチェチラー『ThermoRack800』

レーザーの温度制御に最適!

ThermoRack800は、高い信頼性がありレーザーアプリケーションに 最適です。  冷却能力700~900WのThermoRack800は室温付近でさえも±0.05℃の温度精度を維持します。駆動部はわずか2か所なのでささやきのような静粛性・無振動を実現して、先進的光学・レーザーのアプリケーションにて要求される温度コントロールに対応できます。コアとなる電子温調モジュールは200,000時間を越える寿命です。 【特長】 ■素早い温度応答性と高い温度安定性 ■6Uスタンダード 19インチラックに収まるサイズで省スペース ■温度安定性:±0.05℃(無負荷または負荷一定時) ■フロン系冷媒不使用 ■消費電力を大幅削減 ■騒音・振動を低減

  • チラー

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小型レーザー装置に最適!ペルチェチラー UCシリーズ

超小型!低振動・低騒音・高い温度安定性。小型レーザー装置の温度制御に最適なペルチェ温調チラ- 

超小型、静かな動作音。最も信頼できる電子温調モジュールにより、正確な温度コントロールを提供致します。循環水の温度変化に素早く応答して室温付近の温度制御さえも±0.1℃の温度安定性を維持します。 この手のひらサイズのチラーは装置の内部・上部に容易に設置できます。また、標準装備のRS232Cインターフェィスにより簡単に外部制御をおこなうことができます。 【特徴】 ■CCD カメラ ■ダイオードレーザー ■医療機器 ■研究機器 ■マイクロプレート温度制御

  • チラー

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フロン対策はお済みですか? 『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大60%削減!騒音・振動も防止!

『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働します。 【特長】 ■消費電力を最大60%削減 ■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計 ■騒音・振動を低減

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小型レーザー装置に最適!ペルチェチラー TCubeEdge

コンパクト!低騒音・低振動・正確な温度コントロール!環コストパフォーマンスに優れたペルチェ冷却チラ-

冷却能力最大290WのTCubeEdgeはすぐれた温度信頼性であなたの機器のパフォーマンスを最適化して高い採算性をもたらします。TCubeEdgeは循環水の温度変化に素早く応答して0℃~65℃の温度コントロールにおいて室温付近でさえも±0.05℃の再現性を実現します。スムーズなフローを実現するCentrifugalポンプは動作時の振動がなく、レーザー、光学、分析装置の様々なアプリケーションにて要求される温度コントロールに対応できます。 200,000時間を越える寿命の電子温調モジュールを内部しているTCubeEdgeはコンプレッサーを用いず稼働部品もほとんどないため騒音・振動が極めて少ないです。フロンを用いないので環境に優しい製品です。

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フロン対策はお済みですか? ペルチェチラー UCシリーズ

超小型!静かな動作音!正確な温度コントロール!フロンガス不使用!ペルチェ冷却チラ- 

超小型、静かな動作音。最も信頼できる電子温調モジュールにより、正確な温度コントロールを提供致します。循環水の温度変化に素早く応答して室温付近の温度制御さえも±0.1℃の温度安定性を維持します。 この手のひらサイズのチラーは装置の内部・上部に容易に設置できます。また、標準装備のRS232Cインターフェィスにより簡単に外部制御をおこなうことができます。フロンガス不使用で環境に優しいチラーです。

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フロン対策はお済みですか? ペルチェチラー TCubeEdge

コンパクト!正確な温度コントロール!フロン不使用!ペルチェ冷却チラ-

冷却能力最大290WのTCubeEdgeはすぐれた温度信頼性であなたの機器のパフォーマンスを最適化して高い採算性をもたらします。TCubeEdgeは循環水の温度変化に素早く応答して0℃~65℃の温度コントロールにおいて室温付近でさえも±0.05℃の再現性を実現します。スムーズなフローを実現するCentrifugalポンプは動作時の振動がなく、レーザー、光学、分析装置の様々なアプリケーションにて要求される温度コントロールに対応できます。 200,000時間を越える寿命の電子温調モジュールを内部しているTCubeEdgeはコンプレッサーを用いず稼働部品もほとんどないため騒音・振動が極めて少ないです。フロンを用いないので環境に優しい製品です。

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レーザー装置に最適ペルチェチラー ThermoCube

コンパクト!消費電力大幅削減!低騒音・低振動!フロンガス不使用!ペルチェ冷却チラー

冷却能力200W,300W,400W,600WのThermoCubeはささやきのような静粛性・低振動で、室温付近でさえも±0.05℃温度制度を維持します。 コアとなる電子温調モジュールは20万時間を越える寿命をもち、世界中の電源に対応のユニバーサル電源を搭載しています。オプションを多数用意しており、様々なカスタマイズが容易なデザインとなっています。フロンガス不使用で環境にやさしいチラーです。 *オプションに関してはお問合せ下さい

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プラズマエッチャーチラー NIKOLA3K/5K

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大60%削減!騒音・振動も防止!

『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働します。 【特長】 ■消費電力を最大60%削減 ■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計 ■騒音・振動を低減

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バイオプロセッシング専用チラー

バイオプロセッシングにおけるシングルユースに最適なチラーです。

近年、バイオプロセッシングにおけるリスクの低減と業務の効率化を図るためにシングルユース技術の導入が急速に進んでいます。バイオ医薬品の製造において,従来のステンレス製培養槽に代わりプラスチック製の培養バッグが用いられるます。この新技術を活用することにより,定置洗浄・滅菌作業の省略,多品目製造への迅速な対応,高薬理活性医薬品製造におけるコンタミネーションの防止等,バイオ医薬品製造の効率化等が期待されます。

  • その他半導体製造装置

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