フッ素系溶媒は絶縁性が高いため、半導体製造装置や各種測定装置の 温調用循環液として広く使用されています。 また不燃性・不活性で安全性が高いため、クリーンルーム内の装置の 冷却にも適しています。 このフッ素系循環液には、専用に設計されたチラーがございます。 ＜ペルチェ式チラー＞ ■ThermoRack1201/1801 ■ThermoCube ■NIKOLA3K/5K ＜冷凍機式チラー＞ ■M-75HFE 詳しくは、下記の関連製品ページまたはPDF資料をご覧ください。

『ThermoRack1201/1801』は、素早い温度応答性と±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、1個のデバイスに 不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働します。 詳しくは、下記の関連製品ページまたはPDF資料をご覧ください。

当製品は、信頼性の高い高性能ペルチェモジュールとSolidStateCoolingSystems社が 開発した、独自の特許技術を持つ熱交換プレートの組み合わせにより、非常に コンパクトながら高い冷却能力を発揮するチラーです。 フロンガスを一切使用しておりませんので、GWP規制による使用制限やフロン管理のための 点検作業が不要です。また機械的部品をほとんど使用しておりませんので、振動や騒音も 少なく、摩耗や劣化による不具合を軽減します。装置の組み込みにも好適です。 詳しくは、下記の関連製品ページまたはPDF資料をご覧ください。