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プラズマエッチャーチラー ThermoRack1201/1801

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最終更新日:2022年08月19日

エムエス機器株式会社
エムエス機器株式会社
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半導体製造工程のプラズマエッチングに好適!消費電力最大93%削減!騒音・振動も防止!

『ThermoRack1201/1801』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働します。 【特長】 ■消費電力を最大93%削減 ■冷却水使用量を最大60%削減 ■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計 ■騒音・振動を低減 ■19インチラックに収まるサイズで省スペース

    チラー
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プラズマエッチャーチラー ThermoRack1201/1801

thermorack%201201.jpg
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  • 関連リンク - https://www.technosaurus.co.jp/products/thermorack…

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基本情報

【基本仕様】 温度範囲:-10℃~80℃ 冷却能力:Thermorack1201 : 1340W@20℃ ThermoRack1801 : <High Flow>1600W@20℃ <Medium Flow> 1800W@20℃                <Low Flow>2000W@20℃ 加熱能力:Thermorack1201 : 2000W@20℃ ThermoRack1801 : <High Flow>3000W@20℃ <Medium Flow> 3200W@20℃                <Low Flow>3400W@20℃ 接液部材質:アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法:L483×W610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。

価格帯

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用途/実績例

世界中のFABで、フロン対策、温暖化(省エネ)対策、老朽化対策、プロセス改善の用途で広くご採用いただいております。 各社プラズマエッチング装置に対応した通信インターフェイスを装備しております。各種接続事例をご用意しておりますのでお問い合せ下さい。

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ThermoRack 1201

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ペルチェチラーNIKOLA 3K / 5K

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この製品に関するニュース(1)

プラズマエッチャーチラー『ThermoRack1201/1801』

  • 製品ニュース

『ThermoRack1201/1801』は、素早い温度応答性と±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、1個のデバイスに 不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働します。 詳しくは、下記の関連製品ページまたはPDF資料をご覧ください。

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エムエス機器株式会社

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エムエス機器は、世界トップシェアのチラーメーカー米国NESLAB社 (現Thermo Fisher Scientific社)の日本総代理店として、約50年に亘り培った チラービジネスの経験と、述べ20,000台を越えるチラーの納入実績を持つ技術の専門商社です。2014年より、米国Solid State Cooling Systems社の ペルチェ方式チラーの取り扱いを開始し、環境問題やエネルギー問題に敏感なお客様のニーズを踏まえた商品をご提供しております。 ISO 14001:2004:JQA-EM4217、ISO 9001:2000:JQA-QMA12892

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