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制御チラー - List of Manufacturers, Suppliers, Companies and Products | IPROS GMS

制御チラー Product List

1~7 item / All 7 items

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温度制御チラー『ThermoRack1201』 

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音・振動も防止!

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働します。 【特長】 ■消費電力を最大93%削減 ■冷却水使用量を最大60%削減 ■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計 ■騒音・振動を低減 ■19インチラックに収まるサイズで省スペース

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『ジャケットタンク温度制御専用チラー』

ジャケットタンク内温度を高速に昇温・降温し、かつ高精度に(+0.03度)に安定させるジャケットタンク温度制御専用チラー!

冷却水循環装置(サーキュレーター)の製造・販売などを行っている株式会社AMU冷熱では、『ジャケットタンク温度制御専用チラー』を取り扱っております。ジャケットタンク内温度を高速に昇温・降温し、かつ高精度に(+0.03度)に安定。温度制御幅は、-30°C~120°Cです。 【特長】 ■オートチューニング命令を1度行うと、全て自動的に好適化され以後完璧に制御 ■外乱に高速に追従し、 外乱そのものを押さえ込む様に制御 ■オーバーシュート・ アンダーシュートレスで精密に(+0.03度)かつ高速に設定温度に到達、制御 ※詳細は資料請求して頂くか、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。

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プラズマエッチャーチラー『ThermoRack1201』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音・振動も防止!

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働します。 【特長】 ■消費電力を最大93%削減 ■冷却水使用量を最大60%削減 ■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計 ■騒音・振動を低減 ■19インチラックに収まるサイズで省スペース

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消費電力大幅削減!ペルチェチラー『ThermoRack1201』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音・振動も防止!

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働します。 【特長】 ■消費電力を最大93%削減 ■冷却水使用量を最大60%削減 ■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計 ■騒音・振動を低減 ■19インチラックに収まるサイズで省スペース

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温度制御チラー 『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大60%削減!騒音・振動も防止!

『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働します。 【特長】 ■消費電力を最大60%削減 ■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計 ■騒音・振動を低減

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消費電力大幅削減!ペルチェチラー『ThermoRack1801』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音・振動も防止!

『ThermoRack1801』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働します。 【特長】 ■消費電力を最大93%削減 ■冷却水使用量を最大60%削減 ■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計 ■騒音・振動を低減 ■19インチラックに収まるサイズで省スペース

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プラズマエッチャーチラー ThermoRack1201/1801

半導体製造工程のプラズマエッチングに好適!消費電力最大93%削減!騒音・振動も防止!

『ThermoRack1201/1801』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働します。 【特長】 ■消費電力を最大93%削減 ■冷却水使用量を最大60%削減 ■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計 ■騒音・振動を低減 ■19インチラックに収まるサイズで省スペース

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