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半導体製造などで使われる耐食性に優れ幅広いガス種に対応可能！シンプルな構造でメンテナンスが可能なL型真空バルブ
『IVB/IVBL』は、従来同様、ボディにSUS304を採用し耐久性、 低コスト化を考慮したL型真空バルブです。 極限まで部品点数を減らしたシンプルな構造により低コスト化を実現し、 容易なメンテナンスが可能なデザインになっています。 ベローズシール構造により高いリーク性能を持っております。 【特長】 ■ステンレスボディの採用により、耐食性に優れ幅広いガス種に対応可能 ■角型ボディを採用する事により、低コスト化を実現（IVB） ■玉抜きボディを採用する事により、大きなコンダクタンス性能を実現（IVBL） ■ベローズシール構造により高いリーク性能を有する ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。 詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高温環境(最高200℃)で半導体製造プロセスの多種多様なガスに使用可能！お客様の使い勝手に配慮したデザインコンセプト！
『KD-Sシリーズ』は、独自の技術を取り入れ高温環境下で使用が可能な ダイヤフラムバルブです。 流量の再現性を求められる原子層堆積（ALD）プロセスのプリカーサー （前駆体）供給に好適。 樹脂シートの採用によりメタルシートタイプと比べ高温環境下での シートリークやライフサイクルなどの耐久性能が向上しました。 【特長】 ■高温環境に対応 ■製品誤差がなく交換後も互換性を確保 ■安定して再現性のあるガス流量が得られる ■耐熱性及び耐腐食性に優れたPFAをシート材に採用 ■高温環境下でのシートリークやライフサイクルなどの耐久性能が向上 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ボディ外部とベローズ内部にヒータを内蔵！弁体・ベローズを加熱できる真空バルブです。副生成物付着が減少！
『IVBH』シリーズは、ベローズの動きに追従するスパイラルヒーターを 内蔵し、弁開・弁閉状態でも弁体及びベローズを加熱できるL型真空バルブです。 当バルブは外部ヒーターだけでなく、ベローズの内部から加熱することにより コールドスポットをなくし、副生成物付着を極力少なくすることが可能。 ＃副生成物対策 内部・外部ヒーターは個別のチャンネルを持ち、それぞれMax180℃まで 任意の温度で加熱することができます。 【特長】 ■長期リーク性能を維持する事が可能 ■可動時の生成物脱落が少なくなり、パーティクル発生が極力減少 ■ベローズの高耐久化を実現 ■接続フランジは「ISO KF」「JIS VF/VG」など各種接続に対応可能 ■オプションとして磁気近接開閉スイッチ・サーモスタットなどをご用意 ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。 詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
