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高度な図形処理技術と最新の装置によるフォトマスク
エクアがご提供するフォトマスクは、主にレーザーを光源とした最新の装置により描画されております。エレクトロニクス、光学部品、スケール、ディスプレイなどの分野において、長年に渡る経験豊富な精密フォトリソグラフィー技術、またエクア独自の図形処理技術により、お客様の多様なニーズにお応えします。 エクアは図面からデータを作成し、お客様のイメージや構想の実現をサポートします。 【特徴】 ○対応データ：DXF，DWG，GBX，GDS II や画像データBMP，TIFなど ○パターン形状：直線、円、円弧の他SIN波、スパイラル、ランダムなパターン配置などに対応 ○用途：センサー、ディスプレイ、エンコーダー、半導体パッケージなどの精密フォトリソグラフィ ○図形補正：プロセスにマッチした柔軟な図形補正を行う 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
レーザーを光源とした最新の装置により描画されているフォトマスクです。
フォトマスクとは、電子回路、表示デバイス、光学部品、精密機器などのパターンをウェハ、ガラス基板、プリント基板、金属板などに露光する際に使用される原板のことです。 フォトマスクに描かれたパターンは多くの電気製品、半導体、テレビ、スマートフォン、ノイズフィルター、スケール、ネットワーク回線関連製品に使用されております。 エクアがご提供するフォトマスクは、主にレーザーを光源とした最新の装置により描画されております。 エクアは図面からデータを作成し、お客様のイメージや構想の実現をサポートします。 【特徴】 ○露光用の原板 ○レーザーを光源とした最新の装置により描画 ○多様なニーズに対応 ○回路基板や光学部品のパターンをCADを用いて設計 ○基材の種類： ガラス基板がソーダライムと合成石英の2種類、フィルムがPET 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
