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光学フイルム分野に好適！高い均一性とフィルムダメージレス（パーティクル発生無し）を実現！
『RD』は、既設の製造ラインへの設置が容易な、フイルム表面処理用 ロールダイレクトプラズマ装置です。 高い均一性とフィルムダメージレス（パーティクル発生無し）を実現。 100m/min以上の速度でも実績があります。 また、1ヘッドタイプ or 3ヘッドタイプの豊富なラインアップがございます。 【特長】 ■グロー放電処理 ■高い処理性能 ■真空不要の常圧プロセス ■対応幅：～2500mm ■処理速度：～100m/min ■Utility：電源、処理ガス(N2、CDA)、排気、冷却水 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
低温処理＆電界遮蔽構造でダメージレス！LCD工場を始め数多くの生産工程で採用されています
『RT』は、低温処理＆電界遮蔽構造の大気圧リモートプラズマ装置です。 高速（10m/min)処理で10°以下を達成（LCD向けガラス基板の処理）。 160～3400mm巾まで対応の豊富なラインアップをご用意しています。 LCD分野では、ガラス表面の濡れ性改善、wet洗浄効果の向上に、 タッチパネル、OLEDの分野では、導電フイルムの表面改質、貼り合わせ 前処理などの目的で使用されます。 【特長】 ■ダメージレス ■高い処理性能 ■豊富なラインアップ ■実績多数 ■対応幅：160～3400mm ■Utility：電源、処理ガス(N2、CDA)、排気、冷却水 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
小片基板の濡れ性改善、密着性向上、表面改質に！実験用途に特化した大気圧プラズマ装置
『小型実験機タイプ』は、A4サイズ程度までの枚葉処理に対応する 大気圧プラズマ装置です。 リモート処理、ダイレクト処理どちらも使用可能。 実験用途に特化しており、扱いやすい半自動タイプです。 小片基板の濡れ性改善、密着性向上、表面改質などにご使用いただけます。 【特長】 ■小型装置 ■様々な処理に対応 ■実験用途に特化 ■対応サイズ：～A4（A4以上のサイズは別途ご相談下さい） ■Utility：電源、処理ガス(N2、CDA)、排気、冷却水 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ピンポイントでプラズマ照射が可能！LCD端子清掃や電子部品封止前洗浄の用途などに好適
『AP-T』は、2.45GHzの超高密度プラズマで高速処理が可能な スポット型大気圧プラズマ装置です。 クリーンドライエアー（CDA）での処理もできるほか、 高速立上り→スイッチOn後1秒未満でプラズマが安定します。 電源、制御、ガスユニットを一体化しており、どこでも設置可能な 簡単な用力→電源とCDAです。 【特長】 ■高いプロセス処理能力 ■低いランニングコスト ■コンパクト設計、軽い用力 ■局所的処理可能 ■処理幅：～10mm ■Utility：電源、ガス（Air）、排気 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
