平行平板式減圧プラズマ処理装置 真空プラズマ装置
各種基板・フィルムに対し、用途に応じた様々な官能基（親水、親油、密着性向上。など）を化学的結合により付与することが出来ます。
「PC-RIEシリーズ」は、各種基板/フィルム等に対して、様々な表面改質効果を与える処理が可能です。 もちろん、一般的なプラズマ処理装置として、アッシング、エッチング、デスミア等の処理も可能です。 チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○官能基修飾処理 ○リアクティブイオンエッチング（RIE） その他詳細は、PDFをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。
- 企業：株式会社電子技研
- 価格：応相談
