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O2プラズマ処理ではArプラズマ処理と逆の温度依存性を示す！
耐熱性ラベルNo.102(低感度タイプ)の変色の温度依存性 の技術データについてご紹介いたします。 Arプラズマ処理では高温条件ほど変色色差ΔE＊abは小さくなる 傾向がみられます。 O2プラズマ処理では高温条件ほど変色色差ΔE＊abは大きくなる 傾向があり、Arプラズマ処理と逆の温度依存性を示します。 【Arプラズマ処理 概要】 ■RFプラズマ装置(アリオス株式会社製) ■RF電力：60W ■Arガス流量：40sccm ■到達真空度：5×10^-4Pa ■処理圧：10Pa ■ステージ温度：25～200℃ 【O2プラズマ処理 概要】 ■RFプラズマ装置(アリオス株式会社製) ■RF電力：60W ■O2ガス流量：40sccm ■到達真空度：5×10^-4Pa ■処理圧：10Pa ■ステージ温度：25～200℃ ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
Arプラズマ処理では高温条件ほど変色色差ΔE＊abは小さくなる傾向がみられます！
耐熱性ラベルNo.101(高感度タイプ)の変色の温度依存性 の技術データについてご紹介いたします。 Arプラズマ処理では高温条件ほど変色色差ΔE＊abは小さくなる傾向が みられ、O2プラズマ処理では高温条件ほど変色色差ΔE＊abは大きくなる 傾向があり、Arプラズマ処理と逆の温度依存性を示します。 また、「PLAZMARK 耐熱ラベル」は、フレキシブル性、接着性が ありますので、基板表面や装置内に自由に張り付け評価が可能です。 【Arプラズマ処理 概要】 ■RFプラズマ装置(アリオス株式会社製) ■RF電力：60W ■Arガス流量：40sccm ■到達真空度：5×10^-4Pa ■処理圧：10Pa ■ステージ温度：25～200℃ 【O2プラズマ処理 概要】 ■RFプラズマ装置(アリオス株式会社製) ■RF電力：60W ■O2ガス流量：40sccm ■到達真空度：5×10^-4Pa ■処理圧：10Pa ■ステージ温度：25～200℃ ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
「PLAZMARK 耐熱ラベル」を使用してArプラズマ処理と酸素プラズマ処理で比較
ウエハを隙間を設けて設置し、その隙間に侵入する活性種の動きを、 ウエハ裏面に貼り付けた「PLAZMARK 耐熱性」のNo.101で評価した 技術データをご紹介いたします。 Arプラズマ処理と酸素プラズマ処理で比較し、O2プラズマ処理はウエハ 裏面側中心部まで変色したことから、回り込む長寿命の酸素ラジカルの 存在が示唆。 また、Arプラズマ処理はウエハ裏面は変色しなかったため、 Arイオンは 裏面側には回り込まないと考えられます。 【放電条件】 ■RFプラズマ装置(アリオス株式会社製) ・Ar gas ＝ 5Pa,Power ＝80W,Time ＝60sec ・O2 gas ＝ 5Pa,Power ＝80W,Time ＝30sec ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
