パーティクルカウンター 液中 レジスト・SOG KS-41B
フォトレジスト溶液やSOG中の粒子を0.1 μmから測定可能
高計数効率0 0.1μm フォトレジスト溶液やSOG中の粒子数測定に 国内製造・国内メンテナンスの充実したサポート体制!
- 企業:リオン株式会社
- 価格:応相談
更新日: 集計期間:2026年09月02日~2026年09月29日
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フォトレジスト溶液やSOG中の粒子を0.1 μmから測定可能
高計数効率0 0.1μm フォトレジスト溶液やSOG中の粒子数測定に 国内製造・国内メンテナンスの充実したサポート体制!
0.15μmの粒子を、フォトレジスト溶液やSOG などから測定可能
液中パーティクルカウンター KS-41A フォトレジスト溶液やSOG中の粒子を0.15μmから測定 国内製造・国内メンテナンスの充実したサポート体制
弊社が得意とする【半導体分野向けソリューション】をお客様に合わせてご提案致します!
弊社が得意としているナノオーダーの表面解析機器の他、 半導体プロセス向けのレジスト液、マスクレス露光装置をご提案致します。
「不必要な個所への、はんだ付着防止(の為に塗布)」を設計・実装目線でご紹介!
「ソルダーレジスト」は、プリント基板の表面に塗布された厚さ30μm程の 絶縁膜で、単に「レジスト」と呼ぶことが多いです。 色は緑、青、赤、黄、黒、白が知られております。緑が多いのは パターンも見やすく検査員の目にも優しいから、というのが通説です。 このレジスト塗布の目的の一つに「不必要な個所への、はんだ付着防止 (の為に塗布)」(意図しないところに、はんだが付着するのを防ぐ) というのがありますが、これは塗布する側の目線です。 当ブログでは「ソルダーレジスト」について設計・実装目線で ご紹介しております。 ※ブログの詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
古くて新しい、未だ大量に使用されている「ノボラックレジスト」を初詳説
半導体,液晶デバイスは,リソグラフィー工程を複数回繰り返すことで製造される。この数十回の繰り返し工程中で,最先端の微細パターンが必要とされるのは,ゲート工程などわずかであり,大部分は線幅の太いパターンが使用されることである。この太いパターンにノボラックレジストが使用されているのである。もちろんデバイスによっては,ここにKrF(248 nm)用化学増幅型レジストが使用される場合もある。 よって,半導体デバイスにおいて,線幅の太い工程は,すべてではないにしろいまだにノボラックレジストは使用されており,しかも結構な量が使用されている。 また,中国等の新興国における半導体デバイス製造では,旧世代のデバイスを製造しており,当然ここではノボラックレジストが使用されている。 さらに液晶製造では,すべての工程(5工程)でノボラックレジストが使用されている。工程数についてはハーフトーンマスクの使用により4工程のデバイスメーカもあるようである。高感度・高解像のレジストである化学増幅型レジストの導入も検討もされているようであるが,基板サイズが半導体に比較しけた違いに大きく,使用環境の制御が難しいため実用化には至っていない。
高精度のめっきエリアを実現するネガ型のフォトレジスト電着プロセス
エレコートEU-XCプロセスは凹凸面や3次元形状品に高精度の部分めっきを実現する為のフォトレジスト電着プロセスです。この電着レジストは耐薬品性に優れ、シアン化銀めっきに他、金めっきや硫酸銅めっきのレジストとしても使用可能です。エッジカバー性に優れ、高精度の現像性を実現しました。精密部分めっきを可能にするネガ型電着フォトレジストです。また、エッチングレジストとしても使用できます。
電子ビーム描画装置、EUV露光装置、ナノインプリント・リソグラフィ用途 粉体と溶液の2種類を提供可能!
AQM社のH-SiOxは粉体・溶液2種類を提供可能なネガ型のレジストです。 Dow XR-154やFOXと同等の性能を提供可能です。 粉体・溶液はそれぞれに特徴がございます。 【粉体】 長期間の保管が可能:1年間保存可能なので長期間において少量ずつのご使用が可能です。 即納対応:必要な時にすぐに手に入ります。 常時同じ粘度での使用が可能:使用前に混合するので増粘しません。 濃度調整可能:アプリケーションに合わせた幅広い範囲の膜厚を作成可能です。 最高レベルの線幅:7nmの線幅を実現 【液体】 少量から購入可能:必要量に応じて対応します。 短納期:受注後1カ月以内での納品が可能です。 受注生産:より長いシェルライフでのお届けが可能です。 最高レベルの線幅:7nmの線幅を実現 お問い合わせは弊社担当【北野】まで。
立体構造の電極形成に最低、電解メッキ方式3次元フォトリソ技術
3次元フォトリソとは、立体構造の電極形成に適した、3次元パターン形成技術 次世代の基幹技術と目されるMENSデバイスでは、立体構造に複雑かつ繊細な パターンを加工する技術が要求されます。 弊社では、液相中に基板全体を浸して金属膜を析出させる 電解メッキ方式を利用した、3次元フォトリソ技術をご提供いたします。
高アスペクト比レジスト
フォトファブリケーションを中心的技術として、 マイクロエレクトロニクス製品や光学製品をはじめとする様々な分野での 試作・開発に貢献するフォトプレシジョン社 『高アスペクト比レジスト』のご案内です。 平面のレジストパターンに高さを与えることが実現! ■□■特徴■□■ ■レジストパターンはエッチング工程で、メタル薄膜などを エッチング液から守る膜として使用されている ■高精度のメタルパターンを実現するために、高解像度で 密着性・溶融性の高いフォトレジストが研究開発されている ■その他詳細については、カタログダウンロード もしくはお問い合わせ下さい。
低弾性でFPCの折り曲げが容易。薄型化・軽量化、設計自由度アップに貢献
『感光性カバーレイ(PICC)』は、柔軟性・絶縁性・実装性に優れた フレキシブル基板用のソルダーレジストです。 低弾性で基板が折り曲げやすく、基板設計の自由度アップに貢献するほか、 カバーレイが不要となるため基板全体の大幅な薄型化・軽量化が可能です。 【特長】 ■最小開口サイズ80~150μmで高密度実装に好適 ■摺動試験1000万回以上(R=5mm)でもクラックが発生しない高屈曲性 ■最外装全面をPICCのみでカバーでき、工程短縮・簡略化に貢献 ■EMIシールドを直接貼り付け可能 ■高絶縁信頼性、ライン&スペース 25μm/25μm対応 ※詳しくはPDF資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
難燃性 フレキシブル基板用 熱硬化型ソルダーレジスト
FPC基板に使用する熱硬化型印刷インクです 難燃性・耐薬品性・電気絶縁性に優れ、高信頼性を維持できます 【特長】 ◆一液性ハロゲンフリー、ホルマリンフリー対応品 ◆硬化条件:130℃×10min ◆100/100 ◆表面硬度:HB ◆使用期限:使用期限:6ヶ月(冷蔵10℃以下) ※詳細は資料請求またはダウンロードからお問い合わせください。
非球面、フレネルなどの各種光学レンズ加工や ロール加工などの微細・精密・高品位加工に最適
マイクロダイヤモンド社が取り扱う「アキュバイトーレジスト」のご紹介です
半導体製造には欠かせないフォトレジストに関して、基礎から知りたい方は是非ご覧ください!!
弊社では、電着レジストを製造・販売しておりますが、お客様の中にはそもそもフォトレジスト自体をご存知ではない方も多くおられました。 そこで今回、基礎知識ページのニーズがあると考え、フォトレジストの基礎知識ページを作成させて頂きました。 皆様の中には、下記のようなことをお考えになられた方もいるかもしれません。 フォトレジストってそもそもどういうもの? ネガ型とかポジ型とかよく分からない。。。 具体的なイメージが付かない。。。 ・ ・ ・ そういった方は、是非カタログをダウンロードください!! また、電着レジストに関しての、技術的な相談も承っていますので、お問い合わせフォームからお問い合わせください。
ネガ型アニオンの電着フォトレジストです!
【本製品は開発品となります】 アニオン電着のネガ型フォトレジストですので現像液・剥膜液はアルカリ性になります。 現像液・剥膜液は専用品ではありません。
ソルダーレジストの役割とは?重要性、種類や特徴をご紹介!\プリント基板の設計・開発・製造はニッポーへお任せ!/
ソルダーレジストは、プリント基板(PCB)の表面に塗布されるインクやフィルム状の保護材料で、基板の回路を保護することが役割です。 はんだ付け工程では、はんだブリッジによるショートのリスクがありますが、ソルダーレジストがあることで回路間のショートを防ぎ、製品の信頼性が向上します。 また湿気や化学物質から基板を守るため、腐食防止にも効果を発揮します。 ソルダーレジストは「液状型」と「フィルム型」の2種類があります。 <液状型> インク状の材料をスクリーン印刷やスプレーで塗布するタイプで、複雑な形状の基板にも対応可能です。 低コストで用途に応じた耐熱性や化学耐性の高い成分が含まれた製品が多く、実装工程での柔軟性が特徴です。 <フィルム型> フィルム型はシート状のレジストを基板に貼り付け、UV光で硬化させるタイプです。均一で高精度な塗布が可能で、微細なパターンや高密度な基板に向いています。 剥離剤を使用する工程が少ないため、クリーンな仕上がりが得られるのもメリットです。 ニッポーでは、プリント基板の設計・開発・製造を行っております。 お気軽にお問い合わせください。
各種金属やガラス等に対する接着性が良好!天然ゴム由来エッチングレジスト感光液
『ネームプレート等エッチング向け感光液』は、環化ゴムを主成分とした 酸またはアルカリでエッチング可能なレジストです。 各種金属に対する接着性が良く、各種ネームプレート・銘板の エッチングレジストとして好適です。 また、あわせて助剤として、現像液、希釈液、薄膜液をご用意。 油性のほか、PVAを主体とした水性タイプもございます。 【特長】 ■透明感がある ■ベタつきが少ない ■露光時間が短い ■電解メッキレジストとして優れている ■酸およびアルカリに対し強い耐抗性がある ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
現像室にて、整面、ゴミ取りローラー後、塗布と仮乾燥を行います!
当社では、工程設備にて「レジスト」を行っています。 水平式連続両面スプレーコータにて、液状のレジストインクを エアー霧化式スプレーにより、搬送方向と直交する軸上を スキャニングしながらコーティング。表面塗布後は、自動的に 基板を反転させ裏面も塗布。 また、仮乾燥ではレジストインク内の溶剤を除去させます。 【工程】 ■整面 ■ゴミ取りローラー ■塗布 ■仮乾燥 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
半導体製造に不可欠なフォトレジストの基礎知識を解説
半導体製造業界では、微細回路形成において、フォトレジストの正確な理解と適用が求められます。特に、回路パターンの精度は半導体デバイスの性能に直結するため、フォトレジストの特性や種類、そしてその工程における役割を把握することが重要です。不適切なフォトレジストの選定や使用は、歩留まりの低下や製品の品質問題につながる可能性があります。 本ページでは、フォトレジストの基本的な概念から、ネガ型・ポジ型の違い、工程イメージ、塗装方法、そして当社の電着レジストの特長までを網羅し、フォトレジストに関する疑問を解消します。 【活用シーン】 ・半導体製造プロセスにおける回路パターニング ・フォトレジストの基礎知識習得 ・電着レジストの導入検討 【導入の効果】 ・フォトレジストに関する理解の深化 ・適切なフォトレジスト選定の支援 ・製造プロセスの効率化と品質向上
小型アクチュエータ製造に役立つフォトレジストの基礎知識。
ロボティクス分野、特に小型アクチュエータの製造においては、精密な回路形成が求められます。微細なパターンを正確に転写する技術は、アクチュエータの性能や信頼性に直結します。不適切なフォトレジストの選定や使用は、回路の不良や製品寿命の低下につながる可能性があります。当社のフォトレジスト基礎知識集は、これらの課題に対し、フォトレジストの基本から理解を深めることで、最適な材料選定と工程設計をサポートします。 【活用シーン】 ・小型アクチュエータの精密な回路パターン形成 ・半導体製造プロセスにおける微細加工 ・研究開発段階での材料評価 【導入の効果】 ・回路形成の精度向上 ・製品の信頼性・性能維持 ・開発プロセスの効率化
液晶ディスプレイ製造に不可欠なフォトレジストの基礎知識を解説。
液晶ディスプレイ業界では、微細な画素パターンを正確に形成するために、フォトレジストの適切な理解と活用が求められます。特に、高精細化が進むディスプレイにおいては、パターン形成の精度が製品の品質に直結します。フォトレジストの特性を理解せずに使用すると、意図しないパターンが生じ、ディスプレイの表示不良につながる可能性があります。当社は、電着レジストの製造・販売を通じて、お客様の技術課題解決をサポートいたします。フォトレジストの基礎知識について、カタログで詳しく解説しておりますので、ぜひダウンロードください。 【活用シーン】 ・液晶ディスプレイの画素パターン形成 ・微細回路の形成 【導入の効果】 ・高精度なパターン形成の実現 ・ディスプレイ製品の品質向上
半導体製造に不可欠なフォトレジストの基礎知識を解説
LED業界や発光素子形成においては、微細な回路パターン形成が製品の性能に影響を与えます。特に、光の効率や応答速度に関わる素子形成プロセスでは、精密なパターニング技術が求められます。不適切なフォトレジストの選定や使用は、歩留まりの低下や期待される性能が得られない原因となる可能性があります。本ページでは、フォトレジストの基礎知識から、その種類、工程イメージ、塗装方法、そして当社の電着レジストの特長までを網羅しており、LED製造における技術課題解決の一助となる情報を提供します。 【活用シーン】 ・LEDチップ製造における回路パターニング ・微細な発光領域の形成 ・高精度なパターン転写が求められる工程 【導入の効果】 ・フォトレジストに関する基礎知識の習得 ・LED製造プロセスへの理解促進 ・適切なフォトレジスト選定の判断材料提供
微細構造加工に不可欠なフォトレジストの基礎知識を解説
マイクロマシン業界や微細構造加工においては、高精度なパターン形成が求められます。特に、微細な回路や構造を精密に作り込むためには、フォトレジストの特性理解と適切な選定が重要となります。不適切なフォトレジストの使用や、工程の誤りは、微細構造の精度低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。本ページでは、フォトレジストの基礎知識から、その種類、工程イメージ、塗装方法、そして当社の電着レジストの特長までを網羅しており、マイクロマシン製造における技術課題解決の一助となる情報を提供します。 【活用シーン】 ・マイクロマシンの微細構造設計 ・精密な回路パターニング ・半導体製造プロセス ・MEMSデバイス製造 【導入の効果】 ・微細構造加工の精度向上 ・歩留まりの改善 ・製造プロセスの理解促進 ・適切なフォトレジスト選定の支援
光学レンズの表面加工に役立つフォトレジストの基礎知識。
光学レンズの表面加工においては、精密なパターン形成が求められます。特に、レンズの機能性や外観品質に直結する表面加工では、微細な加工精度が重要となります。不適切な加工は、レンズの性能低下や外観不良の原因となり得ます。本ページでは、フォトレジストの基礎知識から、その種類、工程イメージ、塗装方法、そして当社の電着レジストの特長までを解説し、光学レンズの表面加工における課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・光学レンズの精密なパターン形成 ・レンズ表面への機能性付与 ・微細加工技術の検討 【導入の効果】 ・加工精度の向上 ・レンズの品質安定化 ・新たなレンズ設計への応用
ビニルスルホン(VS)型反応染料の反応基と結合し、その反応性を不活性化するプリント用防染剤です。
ビニルスルホン(VS)型反応染料の反応基と結合し、その反応性を不活性化するプリント用防染剤であり、VS型染料を地型用染料とし、他の反応染料(MCT、MCP、MFCP型染料)を差色用染料とする防抜染加工において優れた効果を発揮します。
端子サイズ、クリアランス、ソルダーマスク厚などの仕様を掲載!
自動車業界では、電子基板の信頼性が非常に重要です。過酷な環境下での使用に耐えうる製品が求められ、ソルダーレジストの適切な選定と形成が、製品の長期的な性能維持に不可欠です。ソルダーレジストの不適切な設計や形成は、振動や温度変化による故障を引き起こす可能性があります。当社のソルダーレジスト形成技術に関する資料は、自動車用電子基板の信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・車載電子機器 ・ECU(Electronic Control Unit) ・各種センサー 【導入の効果】 ・基板の品質向上 ・製品の長寿命化 ・故障リスクの低減
ゲーム機の放熱対策に!仕様をまとめた資料を進呈
ゲーム機業界では、高性能化に伴い、基板の放熱対策が重要になっています。特に、限られたスペースの中で高い熱密度に対応するため、適切なソルダーレジストの選定が求められます。不適切なソルダーレジストは、熱伝導を妨げ、製品の性能低下や故障につながる可能性があります。当社のソルダーレジスト形成技術に関する資料は、端子サイズ、クリアランス、ソルダーマスク厚、表面処理といった仕様を掲載しており、製品選定の際に役立ちます。 【活用シーン】 ・高性能ゲーム機の基板設計 ・放熱対策が必要な基板の選定 ・小型化・高密度実装基板の設計 【導入の効果】 ・適切なソルダーレジスト選定による放熱性の向上 ・製品の信頼性向上 ・設計工数の削減
MEMSの微細構造加工に不可欠なフォトレジストの基礎知識
MEMS分野の微細構造加工においては、高精度なパターン形成が求められます。特に、微細な回路や構造を正確に作り出すためには、フォトレジストの特性理解と適切な選定が重要となります。不適切なフォトレジストの使用や、工程の誤りは、微細構造の再現性やデバイス性能に影響を与える可能性があります。本ページでは、フォトレジストの基礎知識から、種類、工程イメージ、塗装方法、そして当社の電着レジストの特長までを解説し、MEMS分野における微細構造加工の課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・MEMSデバイスの試作・開発 ・微細な回路パターンの形成 ・高精度な構造加工が必要な製品開発 【導入の効果】 ・フォトレジストに関する基礎知識の習得 ・ネガ型・ポジ型の理解促進 ・工程イメージの具体化 ・液状フォトレジストの塗装方法の理解 ・電着レジストの特長把握
高密度実装に不可欠なフォトレジストの基礎知識を解説。
マイクロエレクトロニクス業界、特に高密度実装においては、微細な回路パターンを正確に形成するための技術が求められます。フォトレジストは、この微細加工プロセスにおいて、露光によるパターン形成を可能にする感光性材料として、その役割は非常に重要です。不適切なフォトレジストの選定や使用は、回路の精度低下や不良品の発生につながる可能性があります。当社は、電着レジストの製造・販売を通じて、お客様の高度なニーズにお応えしてまいりました。この度、フォトレジストの基礎知識に関する情報提供の重要性を鑑み、本基礎知識ページを作成いたしました。フォトレジストの基本的な仕組み、ネガ型・ポジ型の違い、具体的な工程イメージ、そして液状フォトレジストの塗装方法について解説しています。さらに、当社の電着レジストの特長についてもご紹介しておりますので、ぜひカタログをダウンロードください。 【活用シーン】 ・半導体製造における微細回路パターニング ・高密度実装基板の製造プロセス ・電子部品の精密加工 【導入の効果】 ・回路パターンの精度向上 ・製造プロセスの安定化 ・製品の信頼性向上
太陽電池の電極形成に不可欠なフォトレジストの基礎知識
太陽電池の製造プロセスにおいては、高精度な電極パターン形成が求められます。特に、光エネルギー変換効率に直結する電極の微細化や均一性は、製品の性能を左右する重要な要素です。不適切なパターン形成は、発電効率の低下や製品寿命の短縮につながる可能性があります。フォトレジストは、この精密なパターン形成を実現するために不可欠な材料です。当社は電着レジストの製造・販売を通じて、お客様の技術課題解決をサポートいたします。 【活用シーン】 ・太陽電池の電極パターン形成 ・微細加工が必要な電子部品製造 【導入の効果】 ・高精度な電極パターンの形成 ・太陽電池の発電効率向上への貢献 ・製品の信頼性向上