フォトレジスト - メーカー・企業と業務用製品 | イプロスものづくり
フォトレジストの製品一覧
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【分析事例】ポジ型フォトレジストの構造解析
熱分解GC/MS法により感光剤の構造解析が可能
ポジ型フォトレジストは、半導体デバイス製造時のフォトリソグラフィー材料として広く用いられています。 レジストに使用される素材は露光光源によって大きく異なりますが、g線、i線用のレジストでは一般にベース樹脂としてクレゾールノボラック樹脂、感光剤としてナフトキノンジアジド化合物が用いられています。本事例では熱分解GC/MS法によってナフトキノンジアジド化合物を分解し、母核の構造を推定した事例を紹介します。
- 企業：一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
- 価格：応相談
ネガ型電着フォトレジスト
高精度のめっきエリアを実現するネガ型のフォトレジスト電着プロセス
エレコートＥＵ-ＸＣプロセスは凹凸面や３次元形状品に高精度の部分めっきを実現する為のフォトレジスト電着プロセスです。この電着レジストは耐薬品性に優れ、シアン化銀めっきに他、金めっきや硫酸銅めっきのレジストとしても使用可能です。エッジカバー性に優れ、高精度の現像性を実現しました。精密部分めっきを可能にするネガ型電着フォトレジストです。また、エッチングレジストとしても使用できます。
ネガ型アニオン電着フォトレジスト【ネガ型カチオンもあります！】
ネガ型アニオンの電着フォトレジストです！
【本製品は開発品となります】 アニオン電着のネガ型フォトレジストですので現像液・剥膜液はアルカリ性になります。 現像液・剥膜液は専用品ではありません。
- 企業：ハニー化成株式会社
- 価格：応相談
