粉体提供可能なネガ型レジスト H-SiOx
電子ビーム描画装置、EUV露光装置、ナノインプリント・リソグラフィ用途 粉体と溶液の2種類を提供可能！
AQM社のH-SiOxは粉体・溶液2種類を提供可能なネガ型のレジストです。 Dow XR-154やFOXと同等の性能を提供可能です。 粉体・溶液はそれぞれに特徴がございます。 【粉体】 長期間の保管が可能：1年間保存可能なので長期間において少量ずつのご使用が可能です。 即納対応：必要な時にすぐに手に入ります。 常時同じ粘度での使用が可能：使用前に混合するので増粘しません。 濃度調整可能：アプリケーションに合わせた幅広い範囲の膜厚を作成可能です。 最高レベルの線幅：7nmの線幅を実現 【液体】 少量から購入可能：必要量に応じて対応します。 短納期：受注後1カ月以内での納品が可能です。 受注生産：より長いシェルライフでのお届けが可能です。 最高レベルの線幅：7nmの線幅を実現 お問い合わせは弊社担当【北野】まで。
- 企業：オプトシリウス株式会社
- 価格：応相談
