ASE光源
広帯域・高出力の近赤外線を放射。コンパクトで使いやすいASE光源
DAYY Photonics社の高性能光学エンジンとアンプモジュールを採用したコンパクト・広帯域・高出力のASE光源です。 独自のドライバーとコントローラーが搭載されており、操作や光出力の調整などを簡単に行うことが可能です。 光出力が高いため、SLD光源よりも高い出力が求められるアプケーションに最適です。
- 企業：ケイエルブイ株式会社
- 価格：応相談
光源(nm) - 企業1社の製品一覧
製品一覧
1～7 件を表示 ／ 全 7 件
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波長可変光源 Hyperchromator
広波長帯域[200nm~2000nm]、超高輝度、高安定
Hyperchromatorは、ISTEQのレーザー励起白色光源XWS-30を光源として用いた波長可変光源です。 ISTEQのXWS-30 専用に開発されたモジュールが、XWS-30 からの光を効率よく取り込み、グレーディング式の分光方式でその光の一部の波長を取り出します。 そのため、XWS-30 の強みである、広波長帯域、極小発光点、超高輝度、高安定を生かした波長可変光源となっています。 【特長】 ・UVからNIR（200～2000nm)の幅広い波長帯域 ・高い輝度 （光源が高輝度 且つ I/F部のスリット削減による高透過率化） ・ポータブルサイズ （47 x 45 x 25 cm：16kg) ・グレーディングの構成を選択可能 ・長寿命による高いコストパフォーマンス ・レーザー励起白色光源を使用しているため、高安定
- 企業：ケイエルブイ株式会社
- 価格：応相談
UV硬化用光源 「SUPERLITE I01」
携帯型、光源にLEDを採用したUV硬化用光源
手持ちで使用することを想定したデザインで、トリガーを引くことでUV光が照射されます。 生産工程でオフラインの硬化装置が必要な方におススメです。 ■コンパクトなデザインで使いやすい ■波長：370nmまたは405nmから選択 接着剤、樹脂の硬化波長に合わせてご選択いただくことができます。 《出力強度》 UVA（370nm) : 出力 1 000mW 出力密度 2 000mW/cm2 Violet（405nm）：出力 2 000mW 出力密度 4 000mW/cm2
- 企業：ケイエルブイ株式会社
- 価格：応相談
広帯域・波長可変 SLD光源
広帯域、高安定の波長可変SLD光源。 広帯域、多波長の光を高効率、低損失で出力することが可能！
●広帯域 最大スペクトル範囲：1265～1725nm（最大バンド幅：460nm） ●小型 32pinバタフライパッケージに最大6個のダイオードを搭載可能 ●高安定性 効率的な熱設計と内蔵された温度管理機能により10ｐｍ以下を達成※ ●使い易い設計 USB/Ethernet通信にて各SLDを独立制御※ ●波長掃引が可能 ライン幅1nm、速度50µs(20KHz)の波長掃引光源へカスタム可能※ ●最大6個の各SLEDを独立して制御可能 ●電流制御：0~1.2A ●全制御をソフトウエアでモニタリング ●ヒートシンク、PCBの温度管理 ●自動ファン制御により、最適な温度管理 ●APIカスタム利用可能 ※ドライバー一体型に適用されます。
- 企業：ケイエルブイ株式会社
- 価格：応相談
SLD光源【Single-SLED ISB1】単一波長モデル
操作性に優れた、シングルチャンネルSLD光源
「Single-SLED ISB1」はドライバーが一体型となったスーパールミネッセントダイオード（SLD）光源です。 USB/RS232/Ethernetのいずれかの通信インターフェースから専用のGUIと接続することができ、SLD光源の出力や周波数の変調などを簡単に操作することができます。 波長範囲が広いものや高出力なものなど、様々なSLDを取り揃えておりますので、お客様のご要求に応じたSLD光源を選べます。 ・豊富な製品ラインナップ（中心波長オプション：770～1680nm） ・高出力：～50mW ・FWHM：15~110nm ・低ノイズ：30dB（PMFアイソレーターを統合） ・専用GUIで簡単に操作可能 ・複数の通信インターフェースで接続可能（USB、RS232、Ethernet）
- 企業：ケイエルブイ株式会社
- 価格：応相談
高輝度広帯域プラズマ光源
高輝度。深紫外から近赤外までの幅広い波長範囲の出力が可能
特長 ・広帯域の波長範囲を出力：190〜2500nm/240～2500nm ・発光点が小さく、高輝度 ・時間的かつ空間的に高安定性 ・ランプおよび電極の磨耗がないため、長寿命:〜10 000時間
- 企業：ケイエルブイ株式会社
- 価格：応相談
EUV光源
高輝度・低デブリを実現したLPP-EUV光源
ISTEQ社のTEUSシリーズは、高輝度・低デブリを実現したレーザー生成プラズマ（laser produced plasma）によるEUV光源です。 従来の液滴ターゲットと異なりプラズマ発生時に飛散するデブリの光学系への付着を防ぐことができます。
- 企業：ケイエルブイ株式会社
- 価格：応相談
