光学薄膜形成装置 Genesis-ARシリーズ
蒸着 スパッタでは困難な 高曲率レンズ，ボールレンズへの成膜に最適
光学薄膜プロセスでは一般的な蒸着，スパッタとは異なるALD（Atomic Layer Deposition）の手法を用いることにより、これまで困難とされてきたボールレンズや高曲率レンズなどの基板に対し、 付き廻りに優れかつ高品質な薄膜の形成が可能となっております。 【概要】 ○φ10 インチ基板 最大50枚一括処理（25枚×2軸） ※基板形状や条件により異なります。 ○基板回転機構付属
- 企業：株式会社昭和真空
- 価格：応相談
