超薄膜成膜技術 Atomic Layer Deposition
R＆D活動および工業規模での量産用に設計！カスタムメイドのリアクターツールを提供しています
原子層堆積（ALD）はCVDの中でも特別なコーティング方法になります。 ALDプロセスにおける補完的で自己制限的な表面反応は、ナノメートル スケールまで制御された厚さの均一なフィルムと、複雑な3D表面形状への 優れたステップカバレッジを備えたコンフォーマルフィルムを提供。 ALD処理のために、FHR AnlagenbauGmbHは、R＆D活動および工業規模での 量産用に設計されたカスタムメイドのリアクターツールを提供しています。 【コーティング方法】 ■少なくとも2つの化学反応物（前駆体）の交互の基板露光によって実行 ■最初の1つの前駆体が基板上にフラッシュ ■前駆体は、未反応の表面部位がなくなるまで（飽和）、反応性の表面部位と反応 ■最初の前駆体のガス状反応残留物が不活性ガスでパージ ■2番目の前駆体がフラッシュされ再び表面反応が起こり、飽和に達するまで置く ■反応をパージした後、2番目の前駆体の残留物の場合、最初の前駆体を フラッシュすることでサイクルを再開 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：ティー・ケイ・エス株式会社
- 価格：応相談
