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液体の中でも特に「水」から作る成膜反応技術！
『ミストCVD法』とは、気体のように扱える液体「ミスト」を使い、 成膜反応（CVD）させる技術です。 霧(ミスト)状にした原料溶液と加熱部を用いて、簡便、安価、安全に 酸化物半導体薄膜を作製できます。 当技術は多くの結晶性酸化膜を成膜するのに適しており、これを応用展開 することで、太陽電池や燃料電池、有機デバイスなど様々な用途・産業分野 で利用することができます。 【特長】 ■液体、特に水から作る ■ミストの状態で原料を成膜室に供給可能 ■原料の安全性が高い ■真空ポンプが不要 ■大面積化・低コスト・小型化・高いスループットが実現可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
非常に滑らかな表面！内壁まで均一な特殊成膜技術
高精度に加工、清浄化したアパーチャープレートにオスミウムを成膜することで、アパーチャープレートのチャージアップを防止することが可能です。 オスミウムは高硬度、高融点であり、導電性の薄膜です。プラズマCVD法にて成膜するため、微細な穴の内部まで均一でなめらかな膜を形成することが出来ます。 【特徴】 ○膜厚 50nm ○良導電性 ○すぐれた耐熱性 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
真空蒸着技術の高い信頼性とそこから生まれる光学製品の多様性
真空蒸着とは成膜技術の一つで、高真空中で蒸着材料を加熱し気化させ、 気体分子となった蒸着材料が基板に衝突、付着して 蒸着薄膜が形成される技術です。 沸騰して蒸発する水蒸気の上に板を持ってきた時に 蒸発した水が付着するのと同じ原理です。 誘電体、金属等の蒸着物質を、屈折率・厚み。層数等の組み合わせを変えて成膜し、光（紫外光・可視光・赤外光）を透過・反射・吸収させることが可能です。 【特長】 ■ガラス、プラスチック、フィルム、金属等に成膜可能 ■蒸着材料としては、金属酸化物（ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＳｉＯ2等）金属（Ａｌ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｓｎ 、Ａｕ、Ａｇ等） ■連続式真空蒸着装置を使用し高品質、生産性向上 ■高真空で成膜することで蒸着膜の密着性や膜質が向上 ※詳しくはPDFをダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
絶縁性の基板にも対応！高品質の静電スプレーでナノ分散液などの液材をワークに吹き付けます
浜松ナノテクノロジー株式会社の『静電噴霧成膜技術』についてご紹介します。 当技術は、ナノ分散液などの液体材料を高電圧で微液滴化し、基材表面に 吹き付けて積層膜を形成する技法です。成膜範囲、定量ポンプ、ホットプレート等の カスタマイズに対応可能。 また、薄塗への対応幅が広い特長も有します。 【特長】 ■微液滴形成に優れた高品質の静電噴霧 ■ナノ材料の機能を引き出す基材への分散塗布 ■ナノ材料からなる細密充填構造や多孔質構造の膜形成 ■絶縁性基材にも成膜が可能 ■個々のナノ材料の観察に適した試料作製(電子顕微鏡や原子間力顕微鏡) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
R＆D活動および工業規模での量産用に設計！カスタムメイドのリアクターツールを提供しています
原子層堆積（ALD）はCVDの中でも特別なコーティング方法になります。 ALDプロセスにおける補完的で自己制限的な表面反応は、ナノメートル スケールまで制御された厚さの均一なフィルムと、複雑な3D表面形状への 優れたステップカバレッジを備えたコンフォーマルフィルムを提供。 ALD処理のために、FHR AnlagenbauGmbHは、R＆D活動および工業規模での 量産用に設計されたカスタムメイドのリアクターツールを提供しています。 【コーティング方法】 ■少なくとも2つの化学反応物（前駆体）の交互の基板露光によって実行 ■最初の1つの前駆体が基板上にフラッシュ ■前駆体は、未反応の表面部位がなくなるまで（飽和）、反応性の表面部位と反応 ■最初の前駆体のガス状反応残留物が不活性ガスでパージ ■2番目の前駆体がフラッシュされ再び表面反応が起こり、飽和に達するまで置く ■反応をパージした後、2番目の前駆体の残留物の場合、最初の前駆体を フラッシュすることでサイクルを再開 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
※9月3日までに初めてお申込いただいた新規会員様は早期割引価格⇒42,000円
【講 師】(株)アルバック 半導体電子研究所 第六研究部 部長 門倉 好之 氏 (有)アーステック代表取締役 名古屋大学 客員准教授 小島 啓安 氏 【会 場】総合自治会館 3階 第1会議室 【神奈川・川崎市】 【日 時】平成22年9月14日(火) 13:00〜16:15
