ホットフィラメントCVD成膜装置 MPHF
ホットフィラメント(ホットワイヤー)を搭載したコンパクトな卓上型CVD表面処理装置です。
試料近くに設けたWフィラメントを最大2000℃に加熱でき、各種反応ガスの分解を促進します。 ガス分解により生成された活性種(ラジカル)が試料表面に堆積して膜を形成します。
- 企業:株式会社マイクロフェーズ
- 価格:応相談
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ホットフィラメント(ホットワイヤー)を搭載したコンパクトな卓上型CVD表面処理装置です。
試料近くに設けたWフィラメントを最大2000℃に加熱でき、各種反応ガスの分解を促進します。 ガス分解により生成された活性種(ラジカル)が試料表面に堆積して膜を形成します。
炉のスライド移動による急冷機構を搭載
グラェン膜を合成するための管状炉熱CVD装置です 炉のスライド移動機構を搭載、サンプルの急加熱/急冷が可能 オプションで、モータ駆動による自動スライド機能も追加可能 オプションで、ターボ排気ポンプの追加により、さらに高品質のグラフェンが成膜可能
長尺粉体CNTや垂直配向CNTやグラフェン膜を簡単に合成できる卓上型CVD装置です。
有機液体原料はもちろん、アセチレンガスや メタンガスなどの炭化水素原料ガスと、H2還元ガスの導入ポートも標準装備し、各種CNTの合成を簡単に実現できます。また、基板ヒーターの急冷が可能で、グラフェン膜も簡単に成膜できます。