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高加速電圧100ｋVの高精度タイプからSEM機能も有するユニバーサルタイプの電子線描画装置をラインナップ、各種ニーズに対応可能
Raith社のEBPGシリーズは、少量生産対応の高速高精度な電子線描画装置で、WWで納入実績は130台以上 EBPGの特徴 ●最大電流値350ｎAを有し、業界最速のスループットを実現 ●Overlay５nm 以下、Stiting8nm以下で高精度描画可能 ●パターンサイズに併せ、描画中にアパチャー自動変更可能で、描画時間短縮 ●対応基板サイズ最大8インチ ●量産対応のオートエアロック（最大10ホルダー） 研究開発向け電子線描画装置ラインナップ ●Pioneer Two（EBL-SEM hybrid）50mmｘ50mmまで対応 ●eLINE Plus 4”まで対応 ●Raith150 Two 8 まで対応 ●Voyager （ミニエン付）8”まで対応
研究開発に適したコンパクトでユーザーフレンドリーな高性能マスクレスレーザー描画装置
Raith社のPicoMasterシリーズは、研究開発向けの高解像度のマスクレスレーザー直接描画装置です。 PicoMasterの特徴 ●高解像度 300nm ●長寿命GaNレーザーダイオード採用、405nm(オプション：375nm） ●グレースケールレベル4095階調 ●3つの描画モード（300nm、500nm、900nm) ●対応基板サイズ5mmx5mm～8インチ＊モデルにより異なる ●様々なCADに対応 ●3D構造に特化したソフトウェア装備機種もあり PicoMasterシリーズ ●PicoMaster 100（テーブルトップ）4”ｘ4”まで対応 ●PicoMaster 150（スタンドアロン）6”ｘ6”まで対応 ●PicoMaster 200（スタンドアロン）8”ｘ8”まで対応
