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描画装置×伯東株式会社 - 企業1社の製品一覧

製品一覧

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電子線描画装置

高加速電圧100kVの高精度タイプからSEM機能も有するユニバーサルタイプの電子線描画装置をラインナップ、各種ニーズに対応可能

Raith社のEBPGシリーズは、少量生産対応の高速高精度な電子線描画装置で、WWで納入実績は130台以上 EBPGの特徴 ●最大電流値350nAを有し、業界最速のスループットを実現 ●Overlay5nm 以下、Stiting8nm以下で高精度描画可能 ●パターンサイズに併せ、描画中にアパチャー自動変更可能で、描画時間短縮 ●対応基板サイズ最大8インチ ●量産対応のオートエアロック(最大10ホルダー) 研究開発向け電子線描画装置ラインナップ ●Pioneer Two(EBL-SEM hybrid)50mmx50mmまで対応 ●eLINE Plus 4”まで対応 ●Raith150 Two 8 まで対応 ●Voyager (ミニエン付)8”まで対応

  • 電子ビーム描画装置
  • その他表面処理装置

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レーザー描画装置

業界ハイレベルの高解像度 or 高スループット マスクレスレーザー直接描画装置

Raith社は、ナノファブリケーション分野において高度な技術を提供する企業として、FIB-SEMやマスクレスEB直接描画装置を含む先端的なツールの開発・設計で知られています。同社は特に微細パターン形成やナノスケール構造作成に適した製品ラインナップを持っており、幅広い研究機関や産業界で利用されています。 2021年には、マスクレスレーザー直接描画装置を開発および製造していた4PICO litho社を買収することで、製品ポートフォリオをさらに拡充しました。 Raith社のツールは、さまざまな基板へのパターニングだけでなく、3次元構造化にも対応しており、世界中で1200台以上の納品実績を誇ります。

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