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卓上小型！高速にパターン試作を可能にするマスクレスなLED直接描画装置
日本カンタム・デザインの『マイクロライターML Family』は、卓上小型で 高速にパターン試作を可能にするマスクレスなLED直接描画装置です。 マスクレスで少量のパターンの試作を手早く可能にし、パターン作製時に 毎回必要なマスク作製の手間を省きます。 フォトレジストに直接LEDで描画することが可能です。 【特長】 ■卓上小型（底部面積70cm×60cm） ■高速でパターン試作を可能 ■毎回必要なマスク作製の手間を省く ■フォトレジストに直接LEDで描画することが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
単に塗る・描画する装置から、デバイスを実際に作れる装置へ進化
1台の装置上で複合的なプロセスが可能
材料開発やデバイス開発を目的とした産業用インクジェットシステム！複数ヘッド搭載で、異なる材料塗布が可能です！
『PatterningJET』は、ウエハーやガラス基板に高精細な描画（パターニング）を行うエレクトロニクス用途としてご活用頂けます。材料開発、デバイス開発、基板開発、カラーフィルター用途、等に効果的な装置です。 【特長】 ■複数ヘッド搭載で、異なる材料塗布が可能 ■アライメント機能との組合せでミクロンレベルの高精度重ね描画可能 ■高精度XYテーブルで高い位置精度実現 ■様々なヘッド駆動条件を調整可能（電圧・バルス・周波数・温度等） ■各描画条件を設定可能（高画質印刷、片方向/往復、描画速度） ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置
『DWL 66＋』は、研究開発用途および小ロット生産やマスク作成やマスクレス露光に適した、高解像度のレーザー直接描画装置です。 マイクロストラクチャの製作と分析に必要な機能を、標準システムとして 装備。 処理能力が高く、また、対応範囲も広いため、MEMSやマイクロ光学など マイクロストラクチャ製作が必要なアプリケーションの研究開発に貢献します。 【特長】 ■マスクレス露光やマスク作成用 ■2.5Dグレースケール露光モード（標準128階調、オプション255階調または1000階調） ■豊富な機能と拡張性により複数用途に対応 ■6つの描画モード（0.3um-4.0um)まで（ピクセルサイズ）切替が可能 ■裏面アライメントも可能な高精度の重ね合わせ ■対応最大基板サイズは9インチ×9インチ ■様々なデータ形式に対応 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせください。
高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』
『ULTRA』は、半導体用マスク作成に適した、高速高解像度レーザー描画装置です。 『ULTRA』高生産性、高精度性、高均一性、超高精度位置合わせ精度を備えるコスト性の良いマスク描画装置です。
高加速電圧100ｋVの高精度タイプからSEM機能も有するユニバーサルタイプの電子線描画装置をラインナップ、各種ニーズに対応可能
Raith社のEBPGシリーズは、少量生産対応の高速高精度な電子線描画装置で、WWで納入実績は130台以上 EBPGの特徴 ●最大電流値350ｎAを有し、業界最速のスループットを実現 ●Overlay５nm 以下、Stiting8nm以下で高精度描画可能 ●パターンサイズに併せ、描画中にアパチャー自動変更可能で、描画時間短縮 ●対応基板サイズ最大8インチ ●量産対応のオートエアロック（最大10ホルダー） 研究開発向け電子線描画装置ラインナップ ●Pioneer Two（EBL-SEM hybrid）50mmｘ50mmまで対応 ●eLINE Plus 4”まで対応 ●Raith150 Two 8" まで対応 ●Voyager （ミニエン付）8”まで対応
業界ハイレベルの高解像度 or 高スループット マスクレスレーザー直接描画装置
Raith社は、ナノファブリケーション分野において高度な技術を提供する企業として、FIB-SEMやマスクレスEB直接描画装置を含む先端的なツールの開発・設計で知られています。同社は特に微細パターン形成やナノスケール構造作成に適した製品ラインナップを持っており、幅広い研究機関や産業界で利用されています。 2021年には、マスクレスレーザー直接描画装置を開発および製造していた4PICO litho社を買収することで、製品ポートフォリオをさらに拡充しました。 Raith社のツールは、さまざまな基板へのパターニングだけでなく、3次元構造化にも対応しており、世界中で1200台以上の納品実績を誇ります。
リニアモーター駆動で高速印刷が可能！1パス印刷のシミュレーション実験機
『OnePass JET』は、1パス印刷のシミュレーションを目的とした 実験機です。 リニアモータ駆動で最大搬送速度2.5m/secの高速印刷。 固定ヘッド方式でA4サイズのテーブルが移動。 インク評価やメディア評価用として活用できます。 【特長】 ■1パスマルチバンド印刷 ■多ヘッド幅広印刷のシミュレーション ■リニアモータ駆動 ■最大搬送速度2.5m/secの高速移動 ■インク評価・メディア評価に活用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
プリンテッドエレクトロニクス用途のインクジェット印刷に必須の親水領域・撥水領域パターン描画装置です。波長２８５ｎｍ
１）有機物の分子結合エネルギーを切断できるフォトンエネルギー。 ポリイミド膜等の表面に親水領域を描画します。 ２） インクジェット・インクをパターン上に導き、バルジ等を改善します ・285nm高出力ＵＶＬＥＤ使用の安価光学系 ・パターン幅20０μｍ ・描画域 100×100mm ・ＤＸＦファイル使用可
高速高解像度レーザー露光装置
『DWL 2000 GS』は、グレイスケールリソグラフィーに適した、柔軟性のある高速高解像度レーザー描画装置です。グレイスケールリソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズやブレーズド回折格子のようなスロープパターンをレジスト上に再現する技術です。 『DWL 2000 GS』シリーズは最大描画エリアが200x200mm²もしくは400x400mm²あり、MEMS、BioMEMS、Micro-Optics、ASIC、Micro Fluidics、センサー、ホログラム、および微細構造を必要とするその他すべてのアプリケーション用途でのマスクやウェーハへの高速高精度パターニングが可能です。 グレイスケールリソグラフィー用途において表面粗さ精度を高めるために、1000階調のグレイスレベルをサポートしています。 【特長】 ■高い安定性・高速高解像度露光 ■5つの描画モードまで切替が可能 ■高精度アライメントカメラシステム ■グレースケール描画モード ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高速パターン・ジェネレータ
『VPG＋シリーズ』は、高速な露光速度により、大型マスク製造、レジストマスター作成、さらには様々な平面基板にも直接描画に対応できる高速露光システムです。 半導体、ディスプレー、センサー、MEMS、先端パッケージング、LED生産、ライフサイエンス、および微細加工を必要とするの分野にお役立て頂けます。 【特長】 ■高分解能 ■高画質 ■高速なスループット ■高速フォトマスク生産に最適 ■どんな平面基板にも直接描画に対応可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
VPGシリーズに300x300mm角基板まで対応した高速描画装置が加わりました。
・高精細・高速描画 ・最大描画領域 300x300mm2
3波長を自在にコントロールし、最適な波長域でダイレクトイメージングが可能
『Ledia6』は、モバイル端末に搭載される基板のさらなる高密度・ 高精細化や、カーエレクトロニクス向けの多種多様な基板へのニーズに 信頼の露光技術でお応えし続ける直接描画装置です。 3波長の光源を自在にコントロールすることで露光に必要な波長域をより ブロードにカバーでき、対応レジストの種類が大幅に拡大。 また、基板のゆがみを補正する独自のアライメントアルゴリズムを装備し 直接描画装置ならではの高精度な仕上がりと最高レベルのスループットを 実現します。 【特長】 ■UV-LED複数波長露光 ■レジストの種類を選ばず高品質な露光を実現 ■高速アライメント ■高付加価値分野対応の描画品質 ■量産から試作・小ロットまで選べるシステム構成 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
加速電圧50kVで2nmの最小ビーム径を実現！※描画デモ可能
通信用半導体レーザーのDFB-LDの生産用に適したモデルです。微細加工性とレジスト感度のバランスがとれた50kV加速電圧を採用した主力製品です。 【特長】 ■単結晶ZrO/Wを採用したＴＦＥ電子銃 ■抜群のビーム電流安定性、ビーム位置安定性 ■加速電圧50kVで2nmの最小ビーム径を実現 ※描画デモできます。詳しくはお問い合わせいただくかPDFをダウンロードしてご覧ください。
微小放電がほとんど発生しない構造の鏡筒を新たに開発し、長時間安定稼動を実現しました
『CABL-UH』は、高加速電圧の採用により、レジスト内の電子線の 前方散乱が少なく、より微細な加工が可能な電子線描画装置です。 130kVの加速電圧は1段加速で生成し、従来の多段加速による電子銃よりも 短い構造となっています。この1段加速の設計により、低収差で クーロンぼけの少ない電子光学系が実現しました。 また、お客様の用途、予算に応じて110kV、90kVのラインアップも 揃えています。是非お問い合わせください。 【特長】 ■高加速電圧を採用 ■レジスト内の電子線の前方散乱が少ない ■より微細な加工が可能 ■大電流で高解像度の描画が可能 ※英語カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
