高速パターン・ジェネレータ
『VPG＋シリーズ』は、高速な露光速度により、大型マスク製造、レジストマスター作成、さらには様々な平面基板にも直接描画に対応できる高速露光システムです。 半導体、ディスプレー、センサー、MEMS、先端パッケージング、LED生産、ライフサイエンス、および微細加工を必要とするの分野にお役立て頂けます。 【特長】 ■高分解能 ■高画質 ■高速なスループット ■高速フォトマスク生産に最適 ■どんな平面基板にも直接描画に対応可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【描画性能】 ■最小描画サイズ [μm] ： 0.75 ■エッジラフネス [3σ、nm] ： 40 ■CD均一性 [3σ、nm] ： 65 ■重ね合わせ精度 [3σ、nm] ： 225 ■対応基板サイズ ：～最大1,400mm角 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
1億円 ~
納期
用途／実績例
【用途】 ■マスク作成やウエハーなどへのパターニング ■マスクレス露光、直描、直接描画 ■半導体、FPD、センサー、MEMS、 マイクロ流路、マイクロオプティクス、導波路などのパターニング ■その他マイクロストラクチャ製作が必要なアプリケーション ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
カタログ（4）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社は、レーザー直接描画装置やマスク描画装置の開発と製造を行う独国ハイデルベルグ・インストルメンツ・ミクロテクニック社の日本法人です。日本国内にてレーザー直接描画装置の販売及び技術サービスを行っています。レーザー描画装置やマスクレスアライナーなどの製品を数多くラインナップしています。レーザーリソグラフィーのことなら、是非当社にご相談ください。
