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高加速電圧100ｋVの高精度タイプからSEM機能も有するユニバーサルタイプの電子線描画装置をラインナップ、各種ニーズに対応可能
Raith社のEBPGシリーズは、少量生産対応の高速高精度な電子線描画装置で、WWで納入実績は130台以上 EBPGの特徴 ●最大電流値350ｎAを有し、業界最速のスループットを実現 ●Overlay５nm 以下、Stiting8nm以下で高精度描画可能 ●パターンサイズに併せ、描画中にアパチャー自動変更可能で、描画時間短縮 ●対応基板サイズ最大8インチ ●量産対応のオートエアロック（最大10ホルダー） 研究開発向け電子線描画装置ラインナップ ●Pioneer Two（EBL-SEM hybrid）50mmｘ50mmまで対応 ●eLINE Plus 4”まで対応 ●Raith150 Two 8 まで対応 ●Voyager （ミニエン付）8”まで対応
加速電圧50kVで2nmの最小ビーム径を実現！※描画デモ可能
通信用半導体レーザーのDFB-LDの生産用に適したモデルです。微細加工性とレジスト感度のバランスがとれた50kV加速電圧を採用した主力製品です。 【特長】 ■単結晶ZrO/Wを採用したＴＦＥ電子銃 ■抜群のビーム電流安定性、ビーム位置安定性 ■加速電圧50kVで2nmの最小ビーム径を実現 ※描画デモできます。詳しくはお問い合わせいただくかPDFをダウンロードしてご覧ください。
微小放電がほとんど発生しない構造の鏡筒を新たに開発し、長時間安定稼動を実現しました
『CABL-UH』は、高加速電圧の採用により、レジスト内の電子線の 前方散乱が少なく、より微細な加工が可能な電子線描画装置です。 130kVの加速電圧は1段加速で生成し、従来の多段加速による電子銃よりも 短い構造となっています。この1段加速の設計により、低収差で クーロンぼけの少ない電子光学系が実現しました。 また、お客様の用途、予算に応じて110kV、90kVのラインアップも 揃えています。是非お問い合わせください。 【特長】 ■高加速電圧を採用 ■レジスト内の電子線の前方散乱が少ない ■より微細な加工が可能 ■大電流で高解像度の描画が可能 ※英語カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
