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卓上小型！高速にパターン試作を可能にするマスクレスなLED直接描画装置
日本カンタム・デザインの『マイクロライターML Family』は、卓上小型で 高速にパターン試作を可能にするマスクレスなLED直接描画装置です。 マスクレスで少量のパターンの試作を手早く可能にし、パターン作製時に 毎回必要なマスク作製の手間を省きます。 フォトレジストに直接LEDで描画することが可能です。 【特長】 ■卓上小型（底部面積70cm×60cm） ■高速でパターン試作を可能 ■毎回必要なマスク作製の手間を省く ■フォトレジストに直接LEDで描画することが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置
『DWL 66＋』は、研究開発用途および小ロット生産やマスク作成やマスクレス露光に適した、高解像度のレーザー直接描画装置です。 マイクロストラクチャの製作と分析に必要な機能を、標準システムとして 装備。 処理能力が高く、また、対応範囲も広いため、MEMSやマイクロ光学など マイクロストラクチャ製作が必要なアプリケーションの研究開発に貢献します。 【特長】 ■マスクレス露光やマスク作成用 ■2.5Dグレースケール露光モード（標準128階調、オプション255階調または1000階調） ■豊富な機能と拡張性により複数用途に対応 ■6つの描画モード（0.3um-4.0um)まで（ピクセルサイズ）切替が可能 ■裏面アライメントも可能な高精度の重ね合わせ ■対応最大基板サイズは9インチ×9インチ ■様々なデータ形式に対応 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせください。
3波長を自在にコントロールし、最適な波長域でダイレクトイメージングが可能
『Ledia6』は、モバイル端末に搭載される基板のさらなる高密度・ 高精細化や、カーエレクトロニクス向けの多種多様な基板へのニーズに 信頼の露光技術でお応えし続ける直接描画装置です。 3波長の光源を自在にコントロールすることで露光に必要な波長域をより ブロードにカバーでき、対応レジストの種類が大幅に拡大。 また、基板のゆがみを補正する独自のアライメントアルゴリズムを装備し 直接描画装置ならではの高精度な仕上がりと最高レベルのスループットを 実現します。 【特長】 ■UV-LED複数波長露光 ■レジストの種類を選ばず高品質な露光を実現 ■高速アライメント ■高付加価値分野対応の描画品質 ■量産から試作・小ロットまで選べるシステム構成 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
