波長285nm親撥水処理パターン描画装置
プリンテッドエレクトロニクス用途のインクジェット印刷に必須の親水領域・撥水領域パターン描画装置です。波長２８５ｎｍ
１）有機物の分子結合エネルギーを切断できるフォトンエネルギー。 ポリイミド膜等の表面に親水領域を描画します。 ２） インクジェット・インクをパターン上に導き、バルジ等を改善します ・285nm高出力ＵＶＬＥＤ使用の安価光学系 ・パターン幅20０μｍ ・描画域 100×100mm ・ＤＸＦファイル使用可
- 企業：株式会社ワイ・ドライブ
- 価格：100万円 ~ 500万円
