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露光装置×株式会社協同インターナショナル - メーカー・企業と製品の一覧

露光装置の製品一覧

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『UV露光装置』

両面露光対応機などUV露光装置を豊富にラインアップ!R&Dから量産まで対応

『UV露光装置』は、マニュアルからセミ/フルオートマチック、両面露光 対応機まで取り揃えています。 豊富な製品ラインアップでR&D~量産まで対応可能。 半導体デバイスやMEMSデバイス、マイクロ流体チップなど様々な用途に 使用されています。 UVライトソースのみの販売も行っています。 【ラインアップ】 ■コンタクトマスクアライナ:Model 200 ■両面露光対応マスクアライナー:Model 800MBA ■両面露光対応マスクアライナー:Model 6000 ■UVライトソース:Series30 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ナノパターン露光装置『PhableR 100』

回折限界を超えた解像度を実現!低コストで周期構造を作製できる露光システム

『PhableR 100』は、高解像度の周期構造を作製できる低コストの 露光システムです。 フォトレジストをコートし、プロキシミティにマスクセットして露光。 独自の技術により、回折限界を超えた解像度を実現。 サブミクロンスケールのグレーティングや六方配列/三方配列の2Dパターン 作製が行えます。 【特長】 ■300nmピッチ以下の高解像度300nmピッチ以下の高解像度 ■DUV光源選択で150nmピッチを実現 ■全面露光 ■ノンコンタクト:マスクをダメージやコンタミネーションから保護 ■事実上無制限の深さ方向フォーカス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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