両面露光対応機などUV露光装置を豊富にラインアップ！R&Dから量産まで対応
『UV露光装置』は、マニュアルからセミ/フルオートマチック、両面露光 対応機まで取り揃えています。 豊富な製品ラインアップでR&D～量産まで対応可能。 半導体デバイスやMEMSデバイス、マイクロ流体チップなど様々な用途に 使用されています。 UVライトソースのみの販売も行っています。 【ラインアップ】 ■コンタクトマスクアライナ:Model 200 ■両面露光対応マスクアライナー:Model 800MBA ■両面露光対応マスクアライナー:Model 6000 ■UVライトソース:Series30 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【用途】 ■半導体デバイス ■MEMSデバイス ■マイクロ流体チップ ■UVナノインプリント ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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あっというまに変化する情報化社会に寸時に対応できる会社、 それが協同インターナショナル。会社創立以来50年経ちました。 そして新たな挑戦！益々強く、荒々しく困難に立ち向かっていきます。 これからもよろしくお願いいたします。