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ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS 標準光源としてUV-LED光源を採用（生産性を落さずランニングコスト削減が可能！）
■ ８インチ以下は「一括露光方式」、 12インチは「ステップ＆リピート露光方式」の選択が可能 ■ 露光エリアが広い為、高生産性を実現 ■ 焦点深度が深い為、MEMS、RFフィルター業界に多数の 実績あり ■ TAIKOウエハにも対応 ■ グローバルアライメント方式 ■ 高剛性フレームにより、高精度アライメント露光が実現 ■ フォーカスマップ機構標準装備
解像力とアライメント精度を高め、量産プロセスに対応可能。UV-LED光源を採用し、ランニングコストを低減します
『CMS（Cerma Micro Stepper）-Ck』は、650×550mmの フルサイズ基板に対応した、微細パターン露光が可能な投影露光装置です。 標準光源として、UV-LED光源を採用。 解像力（L/S）が2μmのインターポーザーをはじめ、 高精細・高精度・高生産性を要求される用途に適しています。 【特長】 ■L/S＝1.4/1.4μmからの量産プロセスに対応 ■ダイバイダイアライメント＆グローバルアライメント方式 ■チップファースト工程にも対応可能 ■ショット毎チルト機構搭載により歩留まり向上 ※詳しくは資料をご覧ください。また、当社では製品を実際に評価いただける クリーンルームも完備。デモをご希望の方はお気軽にご連絡ください。 （ラミネート・塗布、現像の周辺プロセスを含めて対応可能です）
ミラープロジェクションマスクアライナー、コンタクトアライナーで両面露光を可能にするユニット。IR(近赤外線)仕様も実績あり。
マスクを傷つけることなく一括露光が可能なミラープロジェクション露光機には根強い需要があります。 本機は、コンパクトなフットプリントと低い保守コストで、トランジスタやパワー半導体等、MEMSの生産に長年貢献してきました。 経年劣化による照度低下や解像度・均一性の劣化にも、ミラーの再生など独自の技術でチャレンジを続けています。 【装置改造】 ■ 中古装置リファービッシュ販売 ■ 基盤サイズ変更 ■ チャンバー冷媒改造 ■ ミラー再生 【部品販売】 【引取オーバーホール】 【定期メンテナンス】 【移設業務】 ■ 構内移設 ■ 工場移設 【トラブル対応】
