ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS 標準光源としてUV-LED光源を採用（生産性を落さずランニングコスト削減が可能！）
■ ８インチ以下は「一括露光方式」、 12インチは「ステップ＆リピート露光方式」の選択が可能 ■ 露光エリアが広い為、高生産性を実現 ■ 焦点深度が深い為、MEMS、RFフィルター業界に多数の 実績あり ■ TAIKOウエハにも対応 ■ グローバルアライメント方式 ■ 高剛性フレームにより、高精度アライメント露光が実現 ■ フォーカスマップ機構標準装備
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基本情報
・装置：露光機、投影露光機、ステッパー ・用途：半導体後工程用、RFフィルター用、パワー半導体用、電子部品用、パッケージ用、研究用 ・対応基板：ウエハ（特殊ウエハ含む）各種サイズ、ガラス、有機基板等 ・レンズ特徴：解像度 1.5um 以上、等倍、広画角（4～8インチ） ・本体：～12インチ、研究用 ・光源は全て LED が標準 その他、カスタム設計、レンズ設計・製造・販売、LED光源の販売
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企業情報
プリント基板を始めとして、半導体・FPD等主要電子部品の製造装置、検査分析装置の販売を通して日本国内、海外の電子部品メーカー様へ最先端の技術を提供しております。業態は商社ながら「技術を語れる商社」として長年の御客様の信頼関係を活かし、様々な顧客に最適なソリューションをご提供し、これからも日本の電子部品産業に貢献して参ります。
