微細なパターンを半導体基板上に形成するために使用される技術。
投影露光は、半導体製造プロセスにおいて、微細なパターンを半導体基板上に 形成するために使用される技術の一つです。 半導体基板上にUV(紫外線)光を照射することで、フォトレジストと 呼ばれる光に敏感な材料にパターンを形成します。 フォトレジストは、UV光を当てると化学反応が起こり、露光した箇所が 溶解したり、硬化したりします。その後、露光された箇所をエッチングなどの プロセスで取り除き、残った部分には微細なパターンが形成されます。 【特長】 ■光に敏感な材料にパターンを形成する ■ステッパーが使用される ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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夏目光学株式会社は、光学専門メーカーとして光学素子『シリンドリカルレンズ』や『球面レンズ』『プリズム』などを取り扱っております。また、この他にも各種画像処理装置の開発・設計・販売を行っております。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。